三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率

为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系，在中心化L₂-偏差度量下，建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系，对于强度为3的三水平正交表，最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计，获得了均匀性模式紧的下界，该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.     

组合设计的对称化L2-偏差的下界

利用投影均匀性模式得到了两水平部分因子设计的组合设计的对称化L2-偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这个下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准.     

组合设计的离散偏差的下界

效应别名是部分因析设计不可避免的问题.由于别名的因子效应会造成数据分析的困扰,因此如何有效的解除别名效应的模糊性是部分因析设计中的重要问题.折叠反转是解除因子别名效应的经典方法.在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的.因此,这些下界可以作为寻找饱和正交设计的最优折叠反转方案的标准,并给出了用基于离散偏差的均匀性准则来寻找最优折叠反转方案的理论依据.     

最小矩混杂准则与广义最小低阶混杂准则之间一个新的解析等价关系

广义最小低阶混杂(Generalized Minimum Aberration,简称GMA)准则和最小矩混杂(Minimum Moment Aberration,简称MMA)准则是因子设计中两种非常重要的准则,它们被用来比较不同的因子设计的优劣.用MMA中各阶矩的解析表达式来描述广义字长型,得到MMA与GMA之间一个新的解析表达式,从而进一步说明这两种准则是等价的.     

均匀性的一个新度量准则——对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性。本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点。利用该准则，给出了一些均匀设计表。     

分区组设计的一般最小低阶混杂准则的某些结果(英文)

一般最小低阶混杂准则是一个判断分区组设计好坏的新的最优性准则,一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计的构造是一个重要的问题.对一个分区组设计,本文给出了它的与饱和设计Hq中的某个列γ混杂的三阶处理交互作用的个数的表达式,这些结果在构造一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计时是有用的.     

两水平部分因析设计的最小低阶效应混杂准则(英文)

根据效应分层原理,低阶效应比高阶效应更重要.在这种情况下,以别名集的结构为基础,提出了最小低阶效应混杂准则对2n-m设计进行排序.研究了新准则与其它最优性准则,即最大分辨度、最小低阶混杂、纯净效应和最大估计容量准则的联系.给出了具有16和32个水平组合的最小低阶效应混杂设计.     

Double设计在对称化L_2-偏差下的均匀性

二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.     

对称化L2-偏差下组合设计的均匀性

基于对称化L2-偏差讨论了组合设计的均匀性,在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这些下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准。     

混水平饱和正交设计在广义离散偏差下的均匀性

针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.