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首次利用液相外延标准光刻工艺,两次质子轰击方法,研究和制作 了调制增益导引GaAs/GaAlAs锁相激光器阵列。 相似文献
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首次利用液相外延,标准光刻工艺,两次质子轰击方法,研究和制作了调制增益导引GaAs/GaAlAs锁相激光器阵列。它是由六个激光器阵列元组成,调制增益是通过线性也发迹激光器条宽从3μm变化的到8μm,其间距保持常数为5μm实现的。 相似文献
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用液相外延工艺,光刻工艺,质子轰击工艺研制了GaAs/GaAlAs锁相阵列激光器,该器件是由四个不同条宽激光器组成,它们的条宽是从3um线性地变化到6um,相邻激光器的间距保持常数为5um,,其间的隔离是通过质子轰击实现的,观察到远场为单瓣,平行于p-n结平面发散角(11)为3.13度,接近于理论计算的衍射极限角为3度,器件的脉冲光输出功率为120mw/facet。 相似文献
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808nm大功率半导体激光器的低频电噪声 总被引:2,自引:0,他引:2
对808nm大功率半导体激光器的低频电噪声进行测试,给出哭喊件电噪声与频率、注入电流之间关系,讨论噪声与电、光导数之间的关系。结果表明,808nm大功率半导体激光器的电器材怕在低频段主要1/f噪工在阈值附近有最大值。 相似文献
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研究正弦电流直接调制下,单纵模半导体激光器在外部物体的反馈作用时产生的自混合效应,利用这种自混合效应,对静止物体的距离进行非接触性的,测量,通过设定一参考距离,比较靶体与基准点处的拍频信号的最大频率值,简化了测量步骤,分析测量误差与调制电流大小的关系,进而确定短距离的最佳实验条件。 相似文献
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报导了LP-MOVPE InGaAsP/InP体材料和量子阱的生长,生长的与InP匹配的1.55μm波长的InGaAsP材料,在77K时光光半峰宽达18.7meV,InGaAsP/InP量子阱的半峰宽为18.0mev。 相似文献
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首次利用液相外延(LPE)、标准先刻工艺,两次质子轰击方法,研究和制作了调制增益导引CaAS/GaAlAs锁相激光器阵列.它是由六个激光器陈列元组成,调制增益是通过线性地改变激光器条宽从3μm变化到8μm,其间距保持常数为5μm实现的。观察到了远场单瓣,FωHP是1.9°,接近于衍射极限;输出光功率为300mωfacet(cω);其模式特性为:在1.2Ith<I_(ic)-<1.8Ith时为单纵模,否则为多纵模。 相似文献