射频离子镀氮化钛的实验研究

较系统地研究了射频离子镀氮化钛工艺。分析了各参数之间的制约关系,提出了合理控制工艺参数的方法。研究结果表明,射频离子镀的成膜速度随炉内压力的减小而加快,电子枪功率的加大将提高了离子束电流强度,基板与蒸发源距离的加大将降低成膜速度;粒子的入射角度在 45°—135°为宜。但成膜速度与射频起振器功率、基板的负偏压无关。要想提高离子的密度,必须加大电子枪功率,同时要增大射频的起振动率。     

物理气相沉积技术在模具中的应用及发展

物理气相沉积(PVD)在表面处理技术中占有举足轻重的地位。本文通过对三类物理气相沉积技术原理的阐述．说明其应用现况及发展前景。     

氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜

用氩离子束溅射聚四氟乙烯靶材，在黄铜上沉积聚四氟乙烯薄膜，用ＸＰＳ和ＩＲＳ分析方法确定了聚四氟乙烯高分子膜的存在，并依据沉积膜形成过程对沉积膜与靶材在ＩＲＳ谱图上的差异给予了解释，结果表明，这种溅射沉积方法形成高分子薄膜是有效的。     

IBAD-YSZ薄膜辅助离子束对生长竞争机制的影响

采用离子束沉积方法(IBAD)制备高温超导涂层导体的钇稳定氧化锆(YSZ)缓冲层中已发现了YSZ薄膜中生长过程中会出现(001)和(011)取向竞争,该文在IBAD-YSZ薄膜的研究中,选取较弱的辅助离子束流和能量,发现随着束流的变化薄膜从(011)的纤维织构向(001)双轴织构的逐步过渡,这说明辅助束离子在薄膜生长过程中作用非常明显;这一现象除了选择性溅射模型和各向异性破坏模型能解释外,表面自由能和辅助离子束产生的沟道效应相互竞争的作用也可解释取向竞争现象。     

离子束辅助沉积制备氮化钽薄膜

利用离子束辅助沉积（ＩＢＡＤ）技术制备ＴａＮ薄膜；掠入谢的Ｘ射线衍射和透射电镜观察结果显示，薄膜晶粒细小、结构致密，是面心立方结构。     

金刚石覆镀TiN膜的工艺改进及效果

阐明了金刚石覆盖的最佳途径－真空离子覆镀TiN膜。同时通过对从清洗、轰击、到物料的振动与翻滚等全部工艺过程的论述，说明了金刚石覆镀TiN膜的实施过程。通过结果讨论，说明金刚石覆镀TiN膜后的综合性能明显优于未镀和其它覆镀的性能。     

单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜摩擦性能研究

采用单源低能离子束辅助沉积的方法，制备了非晶碳薄膜，分别用喇曼光谱，俄歇电子能谱了薄膜的结构，薄膜为无定形的类金刚石薄膜，薄膜中石墨键（ＳＰ＾２）所占的比重较大，沉积时随着离子束能量及束流的增加，薄膜的显微硬度，摩擦系数，摩擦寿命均增加，类金刚石薄膜具有较好的摩擦性能。     

退火对反应离子镀ITO薄膜光学特性的影响

选用R.I.P.工艺,以Sn、In为蒸发物.以Gs-I型全息干板为基片,在200℃的条件下制备出ITO薄膜.经退火处理表明:退火有助于提高ITO薄膜的可见、近红外光的透射率,但退火温度有一阈值;退火不利于提高ITO薄膜的近红外反射率.     

电刷镀复合镀层沉积机理探讨

本文结合电刷镀镍-钴-二氧化锆复合镀的试验研究,对非金属固体微粒与金属共沉积机理进行了初步探讨,并讨论了表面活性剂、施镀电压、镀液中固体微粒浓度和微粒尺寸等因素对镀层中非金属微粒沉积量的影响.     

不同镀膜温度下离子镀TiN与Cr/Cu接触界面形成与表面特性

使用多弧离子镀在铜基镀Cr的衬底上制备TiN薄膜，借助表面分析技术研究了不同温度下离子镀TiN与Cr/Cu接触的界面与表面性质。通过SEM、TEM观测表面形貌，微结构随温度变化；用AES和XPS测量接触界面成分随温度的变化。结果表明，在90℃下，表面TiN薄膜欠均匀，界面较清晰可辨；随着温度的升高，表面微结晶性能有所改善，在170℃时可见局部球聚隆起，出现粗细不同的类枝状结晶结构，此时TiN与Cr/Cu界面层增厚，形成较为稳定的Tr-Cr金属间化合物。TiN薄膜在金属衬底上的生长行为与衬底表面的原子结构、晶向，以及TiN与金属间的电荷转移和键合状况有关，适当的衬底温度（120℃）可以改变TiN形貌，改善其机械性能。     

电弧离子镀技术中脉冲偏压对TiN薄膜的影响

用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响.研究表明,与直流偏压相比,直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒,降低薄膜的表面粗糙度,提高沉积速率.对实验结果的方差分析显示:气氛和频率是降低表面粗糙度、提高沉积速率的主要因素.     

化学镀铜层的表面处理

将化学镀铜层分别用浸油热处理、磷化膜处理和铬酸盐钝化处理的方法进行实验研究,结果表明：铬酸盐钝化处理是其中最好的方法。它可以提高镀铜层的表面抗氧化性能,耐磨性能以及光亮性。     

天然生漆膜化学镀镍工艺的研究

研究了天然生漆基材上的化学镀镍工艺条件,通过改变施镀工艺的pH值、温度、时间以及镀液配方中主盐质量浓度、还原剂质量浓度,得到不同条件下的化学镀层厚度、外观和镀速等实验结果.并用扫描电镜(SEM)、动态机械热性能(DMTA)、示差扫描量热分析(DSC)和热重分析(TG)等手段研究镀层的形态与性能.该工艺可在生漆膜表面镀上一层均匀、色泽光亮的金属镍膜,其粒径大小匀称、排布规整、镀层致密;生漆/镍金属复合膜的耐热性显著提高.     

超声波化学镀镍工艺

采用超声波化学镀镍工艺，研究了有机聚合物薄膜上化学镀镍过程中温度、镀液成分对沉积速度及镀层情况的影响．采用SEM观测镀层表面形态、厚度，通过EDS测定镀层的镍磷含量，并用XRD分析了镀层的微观结构．     

真空压浆工艺在连续梁施工中的应用

结合预应力连续钢筋混凝土箱梁压浆施工中的经验,阐述了真空压浆的优点、施工工艺、方法及存在的缺点。     

Ni-P-Al_2O_3化学复合镀的机理

为了改善化学镀Ni-P合金镀膜的耐磨性,研究了Ni-P-Al_2O_3化学复合镀膜的工艺条件及其影响因素。得出了适当的化学镀液组成和最佳工艺条件;并测定了热处理对镀膜硬度和耐磨性的影响。