互补设计在Lee偏差下的均匀性

针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D:-D),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D(-D)的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论.     

二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性

讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准.     

互补设计在广义离散偏差下的均匀性

针对一类特殊的二、三混水平部分因子设计d＝(D…),在适当的划分下分别给出了互补设计的广义离散偏差与子设计D) 的广义字长型及均匀性模式的解析关系,同时给出了互补设计的广义离散偏差的下界,最后通过例子来验证其结论.     

二五混水平U型设计的Lee偏差下界

研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性,利用两种不同的新方法,即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界,并将它们综合成一个下界,同时以数值实例验证了该综合下界是紧的,且优于以往文献中的下界.     

混水平饱和正交设计在广义离散偏差下的均匀性

针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.     

二三混水平因子设计离散偏差新的下界

离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在某些设计中更精确.     

关于D空间的遗传性

给出了α-D子集的定义,并且证明了可数个α-D子集的并是D空间.这一结果改进了A.Borges和A.C.W ehrly的结果:可数个闭的D子空间的并是D空间.     

Double设计在对称化L_2-偏差下的均匀性

二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.     

均匀性的一个新度量准则——对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性。本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点。利用该准则，给出了一些均匀设计表。     

基于Sudoku设计的均匀设计构造的几个结果

研究基于Sudoku设计构造的等水平均匀设计与其子设计,以及子设计离散偏差值之间的解析关系,给出混水平设计离散偏差的一个新的下界,并利用拟水平法讨论基于Sudoku设计构造在离散偏差下的混水平均匀设计.     

几类超椭圆丢番图方程组的解

利用初等方法及超椭圆丢番图方程x4-Dy2=1的解与Pell方程基本解的关系,研究由两个超椭圆方程x4-D1y2=1和y4-D2z2=1构成的方程组,证明了该方程组至多只有一组正整数解;对于D1,D2的四类取值,给出了其唯一正整数解的求解公式.本文结果还说明,有无穷多个非平方的正整数D1,D2,使该方程组有正整数解.     

关于Euler一致型方程x2-D1y2=2s2和x2-D2y2=-2t2

设D1,D2是无平方因子正整数.该文给出了方程组x2-D1y2=2s2和x2-D2y2=-2t2有本原整数解(x,y,s,t)的必要条件.     

均匀性的一个新度量准则一对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性．本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点．利用该准则，给出了一些均匀设计表．     

关于Euler-致型方程x^2-D1y^2=2s^2和x^2-D2y^2=-2t^2

设D1，D2是无平方因子正整数，该文给出了方程组x^2-D1y^2=2s^2和x^2-D2y^2=-2t^2有本原整数解(x，y，s，t)的必要条件。     

多响应近似线性回归模型D最优稳健设计

讨论了多响应变量模型的D最优稳健设计问题．在每个响应变量与自变量之间存在近似线性回归关系的假定下,针对偏差向量函数属于某一给定的L2邻域的情形,得到了D最优准则下设计密度的解析表达式．     

Double设计的几个结果

讨论了Double设计在对称化L2-偏差下的均匀性,给出了Double设计为均匀设计的充要条件,同时得到了Double设计的对称化L2-偏差的下界,来评价Double设计的均匀性,最后通过一个例子来验证理论结果。     

某些二维均匀设计表

本文首先利用Bundschuh和朱尧的偏差计算公式^[1],给出了某些二维情况下的均匀设计表的生成元,另外,提出了构造某些二维非平衡均匀设计方法及相应的均匀设计表。     

基于3D的定量化工艺建模与工艺设计

提出了一种基于3D的定量化工艺建模与工艺设计方法，试图解决工艺设计的底层问题，通过3D工序图模型和参数化空间尺寸链模型的映射，构造工艺模型结构，给出了基于该工艺模型的定量化工艺设计系统，为解决3D环境下的定量化工艺设计提出了一种新思路。     

组合设计的离散偏差的下界

效应别名是部分因析设计不可避免的问题.由于别名的因子效应会造成数据分析的困扰,因此如何有效的解除别名效应的模糊性是部分因析设计中的重要问题.折叠反转是解除因子别名效应的经典方法.在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的.因此,这些下界可以作为寻找饱和正交设计的最优折叠反转方案的标准,并给出了用基于离散偏差的均匀性准则来寻找最优折叠反转方案的理论依据.     

基于FPGA的高速并行A/D采样控制电路的设计

给出了一种基于FPGA的高速并行A／D采样控制电路的设计方法．该电路能与各种单片机系统进行友好连接，能够实现高速A／D采集转换和转换后的数据存取．文中以ADC0809为例，详细介绍了含有FIFO存储器的MD采样控制电路的设计方法，并给出了A／D采样控制电路的VHDL源程序和整个采样存储的顶层电路原理图。