混合稀土抛光粉的抛光能力和化学活性的关系

一、引言抛光粉用于抛光玻璃表面,其性能的优劣主要看它的磨削能力和抛光后玻璃表面的光洁度。磨削能力通常用单位时间内对一定型号玻璃的磨削量(mg/min)来度量。但磨削量的测定比较麻烦,它除了因玻璃型号、抛光粉规格不同而异外,还受气温、抛光机床、抛光模层以及操作者的技巧等条件的影响。对同一份抛光粉必须进行多次试验,数据才较为可靠,     

稀土氧化物抛光粉粒度的测定

本文推荐了用X射线衍射线宽法和小角散射法测定稀土氧化物抛光粉的粒度,说明了两法的原理和实验过程。粒度或晶粒大小是说明抛光粉性能的重要指标。本工作用新的进口抛光粉和国产(由不同实验室提供)CeO_2样品进行了晶粒大小和粒度的测定。就不同来源抛光粉的测定结果作了比较。实验结果用电镜相片对照,说明基本可靠。对于线宽法(测定晶粒大小)和小角散射法(测定粒度)的结果,也作了比较和说明。本文在我国首次建立了抛光粉的平均粒度大小测定方法,可用于生产控制,工艺条件选择及抛光过程研究中,因此有一定的推广价值。     

PCB工艺中金相分析磨抛液的研究

在PCB工艺流程中金相切片检测抛光所使用的抛光液大多以金刚砂为主要抛光填料,该文采用的是更廉价的氧化铝抛光粉作为抛光组分。对氧化铝抛光粉进行12 h的球磨处理,配置成了组分为3氧化铝抛光粉,0.1活性炭粉,0.5没食子酸,约96乙醇的抛光液。该抛光液的稳定性和抛光效果均达到应用要求,并大幅降低了成本。     

磁流变抛光光学非球面元件表面误差的评价

正确评价抛光后光学非球面元件表面面形的波前畸变是确保实现光学非球面元件超精密制造的关键。该文提出了结合功率谱密度法和残余误差法并考虑非球面元件表面中频误差的综合评价方法。将提出的综合评价标准应用到磁流变数控抛光过程中,进一步明确了表面残余误差与抛光工艺参数之间的关系,建立了有效消除表面残余误差的抛光工艺规范。按照这一工艺规范制造出一块抛物面光学反射镜,其面形精度达到λ/30(λ=0.6328μm),残余误差为3λ/1000。该方法可为深入开展高精度磁流变抛光技术研究提供参考。     

光学高速抛光材料的研究

在传统的光学另件加工中,抛光是最费力气的一个工序。它是以柏油(包括沥青、松香、蜂腊等)为材料做成模具,由水和抛光粉(氧化铁或氧化铈)组成抛光液,在低速度下进行抛光。生产效率很低。此外,这种传统的抛光所加工的光学另件的质量完全取决于操作者的经验和技术,很不适合于现代化的生产机构。在本世纪六十年代左右出现了“高速抛光”,它的特点:压力大、转速高、自动供给抛光液,抛光时间短,大大提高了生产率。     

工艺参数对SUS304不锈钢抛光速度与抛光质量的影响

为提高不锈钢的抛光质量与效率,配制新型环保不锈钢抛光液,对SUS304不锈钢进行化学机械抛光.研究压力载荷、抛光时间、抛光线速度、pH值等工艺参数对不锈钢抛光性能的影响,结果表明,SUS304不锈钢在最佳的工艺参数组合下,可以达到最佳的抛光效果.     

小口径非球面碳化钨模具的磁场辅助抛光工艺

小口径非球面光学透镜具有优良的光学性能和广阔的应用前景，但其常用的碳化钨模具由于高硬度的材料特性，加工和抛光难度较大.为获得高质量、高精度的小口径非球面透镜，利用磁场辅助的抛光方式对其碳化钨模具进行加工：首先，通过一系列单因素试验选出合适的金刚石微粉粒度和抛光液成分配比，再采用正交试验探究多种工艺参数对抛光效果的影响规律，确定最佳工艺参数组合.结果表明，使用该组工艺参数抛光可以使检测点的粗糙度由10.3 nm降至3.2 nm,刀纹痕迹明显变浅甚至消失.因此，磁场辅助的抛光方式能够有效改善模具表面的波纹度和粗糙度，对于小口径非球面光学元件的加工具有一定的参考意义.     

现场金相检测中电解抛光技术的应用探索

为了改善工件表面的抛光效果,解决传统机械抛光对抛光工件几何形状的限制,提高实际工程中对工件的抛光效率,本文介绍了一种全新的抛光工艺--电解抛光。电解抛光工艺与工件的材质、电流大小以及电解液的温度等参数密切相关,合理的控制这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。本文主要探究电流密度、抛光温度以及阴阳极间的距离等因素对抛光效果的影响。     

高性能倍半氧化物激光晶体生长及制造工艺与装备

发展高端激光制造技术与装备可促进我国传统制造业转型升级。由天津大学牵头的国家重点研发项目"高性能倍半氧化物激光晶体生长及制造工艺与装备"针对性能优良的大尺寸、高熔点倍半氧化物晶体生长工艺与集成装备,及硬脆激光晶体的高效低损伤超精密磨削、抛光工艺与装备等研发难题,开展晶体生长、加工工艺和装备的重大共性关键技术研究。项目预期发展具有自主知识产权、国际先进水平的大尺寸、高熔点倍半氧化物晶体的生长工艺及装备、加工工艺及装备。研制出的高精度大径厚比倍半氧化物激光晶体元件为高功率先进激光器提供核心元件,将会在增材制造、激光制造、信息产业等国家需求的重点领域开拓战略性的新兴产业。     

机器人气囊抛光SiC光学元件加工特性研究

针对碳化硅光学元件已有的化学机械抛光、磁流变抛光、电化学抛光和催化剂辅助抛光等方式存在材料去除率低、成本高等问题,提出机器人气囊抛光方法,并对气囊抛光特性、抛光头机械结构进行了研究。首先基于Preston理论和赫兹接触理论以及速度分析建立了材料理论去除模型,并对去除函数进行了仿真,再此基础上设计了气囊抛光磨头装置。然后对非球面碳化硅元件开展了单点和多点抛光,实验验证了去除函数的精确性和稳定性。最后通过粗抛和精抛进行加工应用验证,实验结果表明,所提出方法能够有效实现碳化硅光学元件抛光,并且去除函数精度高稳定性强,通过3个周期的粗抛、4个周期的精抛,面形收敛率分别为69.4%、51.9%,且收敛速度快、加工精度高。     

基于分形维数的光学表面质量评价及响应曲面模型

针对光学元件表面的微观形貌结构呈现出随机性、无序性和多尺度性,反映出一种非平稳的随机过程.针对这一问题,利用光学元件表面具有微观结构上的统计自相似性特征,首先通过结构函数法计算光学表面的分形维数,分析了分形维数与表面传统评价参数峰谷(PV)值近似线性的关系,验证了可以利用分形维数来评价光学元件表面精度;其次,建立了分形维数与抛光参数的响应曲面回归模型,为了通过控制显著性较强的抛光参数来获取更好的光学元件表面质量,评价了各抛光参数对分形维数的影响权重.     

新型拉丝模高速线抛光机的工艺原理

在消化吸收引进国外技术的基础上,研制了拉丝模高速线抛光机。利用线抛光工艺代替传统的针磨工艺对拉丝模进行修整,可以大幅度地提高设备的可靠性、修整质量和生产率,且延长模具使用寿命。本文介绍了线抛光工艺及线抛光机的结构原理。     

一种高速切削机床用抛光工具的设计

设计了一种基于广泛使用的HSK刀柄的新型抛光工具,利用碳纤维作为增强层,有效地控制了在较大抛光压力下抛光工具变形严重以及抛光体内缩失稳的问题。通过系统地计算和分析,所用结构的动平衡性能符合高速切削设备使用要求。对实现高速切削设备切削抛光同机完成,提高生产效率和加工质量具有一定的实用意义。     

不锈钢化学抛光技术的研究

研究了不锈钢在低温条件下的化学抛光工艺,介绍了抛光液中部分组分的作用,获得了一种抛光质量较好的抛光液。     

不锈钢化学抛光技术的研究

研究了不锈钢在低温条件下的化学抛光工艺。介绍了抛光液中部分组分的作用 ,获得了一种抛光质量较好的抛光液。     

推广之窗

GDL高效管式连套多功能 过滤技术及设备编号:T201090 该技术以过滤元件所构铸的纳一微米通道,集截获、分离、吸附、催化、氧化、磁化为一体的载体,视分离介质物化性能差异对滤过介质实施有     

氮化铝基板抛光工艺的正交实验研究

为解决氮化铝基板抛光工艺的问题,采用正交实验方法系统研究了抛光工艺参数、抛光液平均粒度、抛光液PH值、抛光盘转速、抛光头压力对氮化铝基板微表面粗糙度的影响规律。通过确定较佳的工艺参数,能够批量化生产出满足Al N薄膜材料的抛光基板,成品率达90%。正交实验表明,各因素对氮化铝基板微表面粗糙度的影响因素由大至小顺序为:抛光液平均粒度、抛光液PH值、抛光盘转速、抛光头压力;探索出批量化生产氮化铝抛光基板抛光工艺条件是:抛光液平均粒度为75nm、抛光液PH值为11、抛光盘转速为40RPM、抛光头压力为0.55MPa。     

基于PLC的齿轮电解抛光控制系统的设计

齿轮电解抛光控制系统对加工质量等影响重大,为设计实现电解抛光高精度控制系统,基于电解抛光加工原理、PLC控制和界面组态技术,设计实现一套齿轮电解抛光控制系统。通过对工艺的分析与闭环控制思想设计PLC程运行流程,通过组态软件设计控制系统的人机交互界面。选择西门子S7-1200 PLC控制器和交流伺服电机主轴控制策略,通过温度控制仪和p H仪等辅助控制设备对温度和p H值进行闭环控制。设计短路检测电路,保护控制系统器件。调试验证系统的运行稳可靠,达到很好的抛光效果,同时该控制系统也可用于其它结构件的电解抛光加工。     

不锈钢化学抛光技术的研究

研究了不锈钢在低温条件下的化学抛光工艺.介绍了抛光液中部分组分的作用,获得了一种抛光质量较好的抛光液.     

磷酸酯两性表面活性剂的合成及性能

以乙二醇、环氧氯丙烷、烷基叔胺和五氧化二磷为原料,合成了一种磷酸酯两性表面活性剂。对合成工艺进行了研究,确定了最佳工艺条件,并对产品的两性特征、表面张力、临界胶束浓度等物化性能进行了测试。