基本正则半群的C-确定性

在S .M .Goberstein系统工作的基础上 ,从另一个角度研究了基本正则半群C 确定性 .首次证明了 :若S是基本正则半群且indS大于 2 ,则S是强C 确定的     

半群的C—同构

考虑了由C－同构诱导的映射φE与半群的夹心集S（e,f)之间的关系，证明了基本正则半群的C－同构象仍然是基本正则半群。     

半群的C-同构

考虑了由C -同构诱导的映射 φE 与半群的夹心集S(e ,f)之间的关系 ,证明了基本正则半群的C-同构象仍然是基本正则半群     

几类π－正则半群与其理想

主要讨论了完全π－正则半群和ＧＶ－半群与其双理想；π－正则半群，π－道半群，强π－逆半群和Ｃ－半群与其理想之间的关系。     

Г—正则半群上的同余

关于正则半群的同余的刻划的最好结果推广到Г－正则半群上，实现了Г－正则半群的同余刻划。     

本原正则半群的0—直并分解

本文给出了本原纯正半群，本原Ｐ－正则半群，本原＊－正则半群的０－直并分解。     

基于蕴涵算子上的模糊强正则子半群

文中给出R-模糊强正则子半群的定义,讨论了其与模糊强正则子半群的关系,证明在一定条件下有限个R-模糊强正则子半群的交(并)还是R-模糊强正则子半群,R-模糊强正则子半群的同态像(原像)仍是R-模糊强正则子半群。     

几类广义正则半群概念间的联系

本文从各类广义正则的概念着手，严格刻划了这些半群概念间的范围，举出了一系列反例，进而得到了精确的范围关系图。     

含正则*-断面的正则半群

首先给出了含正则*断面的正则半群类的一些新性质,然后证明了正则半群的左(右)理想正则*断面是其强正则*断面.根据这些性质,通过两个含共同的强正则*断面S°的半群L和R以及相关映射给出了含拟理想正则*断面的正则半群类的一个新的结构定理,其中S°是L的左理想,是R的右理想.     

正则^＊—半群的覆盖

设Ｓ是一个正则＊－半群,Ｃ＊（Ｓ）是Ｓ的最小自共轭全子半群．在Ｓ上定义关系ρ：ａρｂｕ,ｖ∈Ｃ＊（Ｓ）ｓ．ｔ．ｕ＊ｕ＝ａａ＊,ｕｕ＊＝ｂｂ＊,ｖ＊ｖ＝ｂ＊ｂ,ｖｖ＊＝ａ＊ａ,ｂ＝ｕａｖ．用Ｇ表示Ｓ／ρ的置换群,Ｐ（Ｇ）表示Ｇ非空子集的集合．τ是Ｓ到Ｐ（Ｇ）的映射满足条件：（１）ｓ１,ｓ２∈Ｓ,（ｓ１τ）（ｓ２τ）（ｓ１ｓ２）τ;（２）ｓ∈Ｓ,｛ｇ－１∈Ｇ：ｇ∈ｓτ｝ｓ＊τ;（３）１τ－１＝Ｃ＊（Ｓ）．则Ｔ＝｛（ｓ,ｇ）∈Ｓ×Ｇ：ｇ∈ｓτ｝是Ｓ的一个Ｃ＊－酉覆盖．称正则＊－半群Ｓ的一个子集Ｈ是允许的,如果关于任意ａ,ｂ∈Ｈ,ｕ,ｖ∈Ｃ＊（Ｓ）,有ａ＊ｂ,ａｂ＊∈Ｃ＊（Ｓ）和ｕａ,ｂｖ∈Ｈ．用Ｃ（Ｓ）表示Ｓ的所有允许子集（注意到Ｃ（Ｓ）是逆半群）．设Ｓ是一个正则＊－半群,Ｇ是一个群．如果θ：ｇ→θｇ是Ｇ到Ｃ（Ｓ）的一个准同态满足∪ｇ∈Ｇθｇ＝Ｓ,则Ｔ＝｛（ｓ,ｇ）∈Ｓ×Ｇ：ｓ∈θｇ｝是Ｓ的一个Ｃ＊－酉覆盖且Ｔ／σＧ．反之,Ｓ的每一个Ｃ＊－酉覆盖都可以如此构造．     

关于正则半群的左Clifford同余格

本文证明了,正则半群上全体左Clifford同余Lcc(S)组成C(S)的子格,研究了Lcc(S)的≡-类,给出了每个≡-类的最大元,最小元的性质,证明了≡关系Lcc(S)的一个格同余.     

基于9种常用蕴涵算子上的模糊强正则子半群

在前期工作基础上,利用不等式的刻画方法,给出9种常用的R-蕴涵算子下的R-模糊强正则子半群9种等价形式,推广了现有相应模糊代数的结果,丰富了模糊代数的理论成果。     

正则半群的范数连续性

在一般的Banach空间给出了正则半群范数连续的一些等阶条件以及保证其范数连续的生成元C-预解式条件,而在Hilbert空间,作者证明,若可以减少一些正则性,那么-生成元的C-预解式沿虚轴的适当渐近条件或平方可积条件也可以保证它生成-范数连续的正则半群。     

π—正则半群的最小群同余

借助于一种关系R，利用幂等元方法给出了π-正则半群的一个最小群同余。     

左C—α半群

研究所谓在左C－α半群,在给出左C－α半群的一些特性之后,定义了伪织积的概念,并给出了左C－α半群的一种新结构。     

关于π—正则半群的Green关系

给出了π－正则半群上一类广义的Ｇｒｅｅｎ关系中，若干关系类都含有唯一的幂等元的若干特征。     

分裂P-正则半群(英文)

引入了分裂P-正则半群的概念,且证明了P-正则半群是分裂的当且仅当它有一个强P-正则 -断面,这把分裂纯正半群主要结果推广到P-正则半群上.     

正则Ehresmann型wrpp半群

定义了正则Ehresmann型wrpp半群,借助C-wrpp半群,左正则Ehresmann型wrpp半群和右正则Ehresmann型wrpp半群,给出了此类半群的若干刻画。