Al_2O_3 弥散 Ti(C,N)基金属陶瓷刀具

在Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷中，通过加入Ａｌ２Ｏ３弥散颗粒，使材料的硬度和高温性能都得到提高，从而获得更好的切削耐磨性。研究结果表明：Ａｌ２Ｏ３的引入使Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷的常温强度和韧性有所下降而硬度和高温力学性能得到了改善。切削试验表明：Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－Ａｌ２Ｏ３系金属陶瓷比硬质合金、Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＣ复合陶瓷刀具有更好的切削性能。ＳＥＭ观察表明：在Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－Ａｌ２Ｏ３金属陶瓷中，Ａｌ２Ｏ３与Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）有相互抑制晶粒生长的作用，使Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷的晶粒更细化     

Fe-Al_2O_(3p)复合材料的热处理

采用硬度、拉伸和磨损等试验手段，检测了Ｆｅ－Ａｌ２Ｏ３ｐ复合材料的强化效果；通过光学显微镜、ＳＥＭ等微观分析技术，分析了淬火处理后Ｆｅ基与Ａｌ２Ｏ３颗粒间的复合状况。结果表明，淬火处理可强化基体，降低Ａｌ２Ｏ３颗粒与基体间的硬度梯度，使两者复合更紧密，提高材料的整体性能。     

Fe基－Al_2O_3复合材料的界面研究

将工业还原铁粉、Ａｌ２Ｏ３颗粒、炭粉及某种适量粘结剂，通过粉末冶金方法在高温下进行烧结，制备了Ａｌ２Ｏ３颗粒增强Ｆｅ基复合材料。用ＳＴＥＭ，ＴＥＭ及ＳＥＭ对界面结合机制进行了分析与研究。结果表明，烧结过程中在Ａｌ２Ｏ３颗粒与Ｆｅ基界面生成了中间相，使Ａｌ２Ｏ３与铁基有良好的结合强度，所制备的Ｆｅ基－Ａｌ２Ｏ３复合材料的硬度、耐磨性已超过相同含碳量的碳钢材料     

TmxY1—xAl3（BO3）4晶体生长和光谱特性

用Ｋ２Ｍｏ３Ｏ１０－Ｂ２Ｏ３作助熔剂，采用缓慢降温自发成核的方法，生长了稀土四硼酸盐晶体ＴｍｘＹ１－ｘＡｌ３（ＢＯ３）４（简称ＴＹＡＢ），晶体尺寸为８×６×５ｍｍ３．对所获得晶体进行Ｘ射线结构分析，表明ＴＹＡＢ晶体属三方晶系，晶胞参数ａ＝９．２３７，ｃ＝７．１９２．测定了该晶体室温下的红外光谱、反射光谱、激发光谱及荧光光谱，当用２６１ｎｍ波长激发时，可产生３４５ｎｍ（３Ｐ０→３Ｈ４）蓝紫色及４５０ｎｍ（１Ｄ２→３Ｈ４）蓝绿色的荧光发射     

含Al_2O_3的ZrO_2中的晶界相研究

用复平面阻抗分析法测量了含Ａｌ２Ｏ３的ＺｒＯ２材料的晶界电阻，并用ＥＰＭＡ，ＴＥＭ及正电子湮没技术等手段从显微组织、缺陷结构等方面分析了Ａｌ２Ｏ３含量和烧结温度对晶界电阻的影响，提出了一个新的Ａｌ２Ｏ３作用机理。用一个简化了的模型分析了晶界相对ＺｒＯ２氧传感器输出电势的影响。     

磷改性对γ—Al2O3物化性能的影响

用实验方法考察了磷改性对γ－Ａｌ２Ｏ３的物理和化学性能的影响，研究表明，磷酸盐与γＡｌ２Ｏ３的反应容量有限，且存在着一个平衡点。磷改性在一定程度上能降低γ－Ａｌ２Ｏ３的表面积和孔体积，并同时能改变γ－Ａｌ２Ｏ３ 表面酸性，使γＡｌ２Ｏ３表面酸强度减弱。     

非晶态NiP-Al_2O_3复合材料的沉积组织与特性研究

文章研究了非晶态ＮｉＰ－Ａｌ２Ｏ３复合材料的沉积组织与特性。指出Ａｌ２Ｏ３随着ＮｉＰ的沉积而发生共沉积,形成ＮｉＰ－Ａｌ２Ｏ３复合材料;认为Ａｌ２Ｏ３的加入,显著改变了ＮｉＰ合金的沉积组织与特性;与非晶态ＮｉＰ合金相比,ＮｉＰ－Ａｌ２Ｏ３复合材料具有更高的硬度和耐磨性。     

HEDP表面处理 对Ni3Al氧化行为的影响

利用高能量密度等离子体（ＨＥＤＰ）对金属间化合物Ｎｉ３Ａｌ进行了表面处理，在合金表面获得了纳米级微晶层。该微晶层可以通过增加Ａｌ２Ｏ３优先形核位置和提高Ａｌ的向外扩散促进Ｎｉ３Ａｌ氧化时形成表面Ａｌ２Ｏ３，消除了生长速度较快的ＮｉＯ相。     

氧化镍在γ－Al_2O_3和TiO_2－Al_2O_3上的分散状态研究

采用浸渍法制备了系列ＮｉＯ／γ－Ａｌ２Ｏ３，ＮｉＯ／ＴｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３催化剂样品，用ＸＲＤ，ＥＸＡＦＳ等方法对这些样品进行了分析．ＸＲＤ相定量方法测得ＮｉＯ在γ－Ａｌ２Ｏ３载体上的最大分散量为０．０６５ｇＮｉＯ／１００ｍ２Ａｌ２Ｏ３，而ＮｉＯ在ＴｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３载体上的最大分散量为０．０８１ｇＮｉＯ／１００ｍ２ＴｉＯ２Ａｌ２Ｏ３。ＥＸＡＦＳ分析结果表明：ＴｉＯ２的引入改变了ＮｉＯ在载体表面上的分散状态．     

无限层薄膜（Sr,Ca）CuO2的相分析

采用脉冲激光沉积（ＰＬＤ）方法在４００￣６７０℃和７￣７０Ｐａ氧压下制备了（Ｓｒ,Ｃａ）ＣｕＯ２无限层薄膜。通过薄膜的Ｘ光衍射（ＸＲＤ）测量来进行薄膜的相分析。Ａ２ＣｕＯ３＋δ（Ａ代表Ｓｒ,Ｃａ）相在ＳｒＴｉＯ３,ＬａＡｌＯ３,ＣａＮｄＡｌＯ４和ＭｇＯ衬底上在４００￣６００℃极易生成,而无限层ＡＣｕＯ２＋δ相只能在高于４７０℃和相配的ＳｒＴｉＯ３和ＬａＡｌＯ３衬底上生成。在ＳｒＴｉＯ３衬底上当温度     

Electrodeposition of functionally graded Ni-W/Er_2O_3 rare earth nanoparticle composite film

Multi-layered functionally graded(FG) structure Ni-W/Er_2O_3 nanocomposite films were prepared by continuously changing the deposition parameters, in which the Er_2O_3 and W contents varied with thickness. The microstructure and chemical composition of the electrodeposited Ni-W/Er_2O_3 films were determined by scanning electron microscopy(SEM) and energy-dispersive X-ray spectroscopy(EDS). The anti-corrosion and wear properties of the electrodeposition films were investigated by electrochemical measurement and ball-on-disk friction test. The microhardness distribution of the cross section of nanocomposites was measured by nanoindentation. The results showed that with decreasing agitation rate or increasing average current density, the contents of Er_2O_3 nanoparticles and tungsten were distributed in a gradient along the thickness, and the contents on the surface were larger. By comparison, FG Ni-W/Er_2O_3 films had better anti-corrosion and wear properties than the uniform Ni-W/Er_2O_3 films. Atomic force microscopy(AFM) and profilometry measurements indicated that Er_2O_3 nanoparticles had an effect on the surface roughness.     

光化学沉积法制备掺杂TiO2薄膜

采用光化学沉积法在玻璃上制备了锐钛矿型TiO2和金属铁、铬离子掺杂TiO2薄膜,并采用XRD,SEM,XPS表征了所合成的薄膜.结果表明,掺杂铁离子的TiO2薄膜表面呈现出颗粒状纹路,掺杂铬离子的TiO2薄膜表面呈现网格状纹路.TiO2薄膜的亲水性能随着金属离子的加入而增加.铁离子的加入对TiO2薄膜催化降解甲基橙的能力有所促进,而铬离子的加入对TiO2薄膜催化降解甲基橙的能力没有显著提高.     

纳米SiO2-Al2O3聚酰亚胺杂化薄膜的制备及表征

采用溶胶凝胶法制备了二氧化硅及三氧化二铝溶胶,将其掺入聚酰胺酸基体中,得到SiO2-Al2O3聚酰亚胺杂化薄膜,对膜的结构性能进行了研究和表征.结果表明,薄膜材料中SiO2和Al2O3粒子分散均匀,与有机相存在键合,材料热分解温度有所提高.     

α-Fe_2O_3/ZnFe_2O_4复合薄膜光生电荷分离与光电性质研究

采用溶胶-凝胶法分别制备出α-Fe_2O_3和Zn Fe2O_4两种胶体,在ITO透明导电玻璃上制备成不同厚度配比的α-Fe_2O_3/ZnFe_2O_4异质结.XRD检测结果表明,复合薄膜两种组分都达到了良好的结晶状态;而且,各复合薄膜体系都呈现出了异质结复合结构的光吸收特性,但光吸收性质差异不明显.稳态表面光电压谱测试结果表明,两组分的厚度分别在1.3μm(α-Fe_2O_3)和1.8μm(ZnFe_2O_4)时达到最佳光伏响应强度.在正的外电场诱导下,组分厚度分别为1.3μm(α-Fe_2O_3)和1.8μm(Zn Fe_2O_4)的复合薄膜具有更为优越的光伏响应特性.     

SnO_2(F)、Fe_2O_3和ZnSe(Fe)薄膜厚度的测量

用RBS技术、椭偏法和微量天平称重法测量了掺氟SnO_2(FTO)透明导电膜、掺铁ZnSe磁性半导体膜和Fe_2O_3气敏元件膜的薄膜厚度.实验结果表明,RBS技术的测量数值与椭偏法以及微量天平称重法测得的结果符合得较好。     

砷化镓等离子体氧化膜的组分与退火效应

本文用俄歇电子谱、x-射线光电子谱与红外吸收相结合的方法分析了GaAs等离子体阳极氧化(OPA)膜的组成和热稳定性。刚生长的GaAs—OPA膜主要成分是:xGa_2O_3+yAs_2O_3,在氧化膜体内和界面区含有少量未氧化的砷。经300℃～600℃退火70～120分钟后,薄膜内As~2O_3的含量明显减少,氧化镓的含量不变。俄歇电子谱分析和虹外吸收实验分析表明,GaAs—OPA膜的特征红外吸收带可用作GaAs上自体氧化膜的检验手段。     

太阳光控薄膜的研制

利用光控膜对太阳光透过或反射的选择性,借以改善节能建筑热光性能,获得舒适的环境.同时通过该光控膜彩色反射作用增加美感,这是近年来发展起来的一项技术.制备这些光控膜的工艺方法很多,如真空蒸发、溅射浸渍、喷涂热解及化学沉积等.光控膜可直接沉积在玻璃上,也可以沉积在塑料聚酯膜上,再粘到玻璃上.实际应用中要求     

聚酰亚胺/SiO2Al2O3杂化薄膜亚胺化反应分析及分子结构预测

采用溶胶-凝胶法制备聚酰亚胺/二氧化硅-氧化铝(PI/SiO_2-Al_2O_3)杂化薄膜.运用红外光谱仪、示差扫描量热仪和紫外-可见分光光度计分别测试了亚胺化过程中各阶段杂化膜的特征基团吸收峰的变化,反应热以及紫外-可见光透过率.使用原子力显微镜分析了无机相在亚胺化各阶段的形貌变化.通过这些分析推测了杂化薄膜的分子结构.     

纳米Y2O3/TiO2羧甲基纤维素(CMC)负载膜光降解偶氮染料的研究

以钛酸丁酯和硝酸钇为原料,采用Sol-Gel法制备Y3 掺杂TiO2纳米粒子.通过XRD、TEM等手段对纳米粒子的结构进行表征,用PL研究粒子光电性能,并用SEM方法测得羧甲基纤维素膜的形貌和厚度.以水相亚甲基蓝溶液的光催化降解反应为实验模型,考察纳米粒子CMC复合膜的光催化活性.结果表明,复合膜明显提高了染料的降解,达到90%以上,其光降解反应属于表观一级反应动力学.     

CVD法制备SiO2薄膜工艺条件的研究

在Al2 O3 陶瓷基片上以正硅酸乙酯 (TEOS)为原料 ,高纯氮气作载气 ,采用低压冷壁式设备和化学气相沉积(CVD)方法制备SiO2 薄膜 ,研究了基片温度、TEOS温度和沉积时间对SiO2 薄膜沉积速率的影响 .采用XRD ,XPS和SEM技术对SiO2 薄膜的组成和结构进行了分析