表面接枝胶原蛋白的聚偏氟乙烯膜的研究

利用低温等离子体技术对聚偏氟乙烯(PVDF)膜表面进行改性,并接枝胶原蛋白,研究了胶原蛋白的质量浓度和接枝时间对膜性能的影响.对接枝后的膜材料进行了水通量、接触角、染色性能方面的测试,并利用傅里叶红外光谱对膜表面结构进行研究.研究结果表明,通过等离子体技术在PVDF膜表面成功接枝了胶原蛋白,提高了膜的亲水性能.     

辉光放电空气等离子体改性聚砜膜的研究

为了研究空气中等离子体改性对聚砜(PSF)超滤膜性能的影响,通过辉光放电空气等离子体对聚砜膜进行表面改性,采用亲水接触角法评价了改性条件对聚砜膜表面性质的影响规律.采用牛血清蛋白溶液作为类蛋白污染物进行试验,评价了改性前后聚砜膜的渗透性、污染率、恢复率等性能.结果表明,聚砜膜表面经等离子体处理后,表面润湿性发生变化,在最佳表面改性条件(放电功率8W,放电时间30s)下,膜表面的水接触角从69°下降到20°.改性后的聚砜膜渗透性能提高,抗污染性能得到了明显改善.     

HT-7超导托卡马克第一壁硼碳膜的XPS分析

通常在托卡马克第一壁沉积 1层硼碳膜 ,以降低托卡马克等离子体的氧杂质。现在 H T-7第一壁位置处放置几个石墨和不锈钢基体样品 ,与 H T-7一起硼化 ,硼化后取出部分样品膜 ,剩余样品留在真空室接受聚变等离子体的轰击 ,通过对鲜膜和轰击膜进行 XPS分析 ,发现膜由硼、碳、氧和铁等元素组成 ,并在膜深度方向上均匀分布 ,在成膜及等离子体轰击过程中 ,膜对氧有强吸收     

等离子体噻吩聚合膜紫外吸收的讨论

从等离子体噻吩聚合膜的反射谱和透射谱,运用传递距阵方法计算得到膜的光学常数:折射率n_f和消光系数k_f(受测量仪器限制,反射谱和透射谱以能量(?)ω表示的频率宽度为0.4～4.0 eV)。等离子体噻吩聚合膜在这个频率宽度内,没有显示出对光的强吸收。由膜的折射率谱及塞尔迈耶公式,可推断在大于4.0 eV紫外区,等离子体噻吩聚合膜存在一定强度的吸收。并进一步利用复数介电函数的实部与虚部之间的 k-k关系,以振子模型进行外推,对等离子体噻吩聚合膜的紫外吸收进行讨论。     

低温等离子体改性PTFE膜接枝丙烯酸研究

采用低温等离子体工艺对PTFE膜进行表面改性，在改性后的表面接枝丙烯酸，对改进性结果进行测试，表明在PTFE膜的表面形成一层聚丙烯酸（pAAc）薄膜，即生成PTFE-g-pAAc膜．PTFE-g—pAAc膜的表面亲水性及其表面稳定性比等离子改性PTFE膜（PTFE modified by plasma）有所改善，克服了单纯等离子体改性效果不稳定的缺点．     

大气压辉光放电等离子体薄膜表面改性后的退化现象研究(英文)

由于薄膜材料表面的惰性特质影响了其更为广泛的应用,因此,研究如何改变薄膜表面特性而不影响其主体特性就显得尤为必要.文章采用大气压He/N2和He/O2辉光放电等离子体对双向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜进行表面改性.BOPP膜表面的亲水性和功能性在等离子体处理后得到了极大改善.重点研究了等离子体处理后的BOPP膜表面随存放时间的退化演变.研究结果表明:等离子体处理后的BOPP膜表面在存放时间内有疏水性恢复发生,然而,该BOPP膜表面的亲水性仍比等离子体未处理过的BOPP膜表面的亲水性要好得多;X射线光电子能谱仪检测到的等离子体处理过的BOPP膜表面的元素成分随存放时间也发生变化,表明薄膜表面的疏水性恢复可能是由于薄膜中的不稳定添加物从薄膜主体向表面扩散而导致的,而且由等离子体引起的薄膜表面的N元素相关功能团可能并不是高交叉链接的.     

NH3等离子体处理的PET表面接枝氨基酸的研究

用氨气等离子体处理聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜，在表面引入活性基团氨基，并通过戊二醛接枝谷氨酸。利用接触角、全反射傅里叶红外光谱（ATR-FTIR）、光电子能谱（XPS）和体外血液相容性实验(APTT)表征接枝改性后的膜的表面结构和性能，比较了只用氨气等离子体处理的膜和接枝谷氨酸后的膜的性能。结果表明，两种改性膜亲水性均提高，70W放电功率下改性的膜血液相容性改善效果最好。与未处理的膜相比，用氨气等离子体处理的膜的APTT延长了5.9s,接枝了谷氨酸的膜的APTT延长了3.2s。     

医用聚氯乙烯的表面磺酸化及抗凝血性能研究

利用SO2/O2混合气体等离子体处理医用聚氯乙烯(PVC)膜，在材料表面引入磺酸基，借助X射线光电子能谱和ATR-FTIR光谱对膜表面的组成及结构进行表征，通过动态凝血实验以及凝血酶原时间、部分凝血活酶时间、凝血酶时间的测定，对聚氯乙烯膜的抗凝血性能进行评价．实验结果表明，等离子体处理聚氯乙烯膜可以在材料表面有效地引入磺酸基，显著提高材料的抗凝血性能．     

硅微尖上金刚石膜的生长

采用微波等离子体方法在硅微尖上生长了金刚石膜，并利用ＳＥＭ和Ｘ射线衍射方法对金刚石膜进行了研究．     

NiTi基C型聚对二甲苯材料的等离子体处理初探

研究了等离子体处理对ＮｉＴｉ基Ｃ型聚对二甲聚对二甲苯膜界面结合、Ｃ型聚对二甲苯膜表面荷电性及浸润性的影响，结果表明，等离子体处理适用于医用功能材料领域     

烯丙胺等离子体处理聚丙烯膜的酶固定化

以烯丙胺等离子体对聚丙烯膜表面进行处理后,利用表面生成的氨基功能基团进行过氧化物酶的固定化,所采用的固定化方法主要有吸附法、戊二醛交联法和分子识别法.结果表明通过等离子体处理后聚丙烯膜表面的氨基基团可以有效地提高酶固定化效率,其中分子识别法可以得到具有最高酶活和酶稳定性的固定化酶膜.     

聚乳酸膜表面氨等离子体改性

为研究氨等离子体对聚乳酸膜表面进行改性以及改性时发生的化学变化，采用接触角和XPS来表征．实验结果表明，氨等离子体能对聚乳酸膜表面进行改性，氨主要以-NH-CO-或C-N和-NH3^ 基团形式接枝在聚乳酸膜表面的链段上，并且随着等离子体处理时间从5min延长到20min，聚乳酸膜表面N元素的含量也从3.2％增加至5.2％(P=80W，而接触角则随聚乳酸膜表面接枝上亲水性极强的-NH3基团含量而变化．     

光纤表面等离子体共振传感器Al膜氧化的仿真研究

为了研究光纤表面等离子体共振传感器的传感特性,利用TFCalc软件仿真研究光纤表面等离子体共振(SPR)传感器的反射光谱特性。考查了敏感膜为Al膜及被氧化的Al膜对反射光谱特性的影响。仿真结果表明,Al膜的被氧化程度对反射光谱的影响较大,对光纤表面等离子体共振传感器的灵敏度影响也较大。     

光纤表面等离子体共振传感器敏感膜的仿真研究

为了研究光纤表面等离子体共振传感器的传感特性,利用TFCalc软件仿真研究光纤表面等离子体共振(SPR)传感器的反射光谱特性,分别考查敏感膜为Au膜、Ag膜、Al膜和Cu膜对反射光谱特性的影响。仿真结果表明,Au膜和Ag膜有较高的灵敏度,Al膜和Cu膜厚度分别在10 nm和30 nm有较明显的共振现象。     

不同成分等离子体对PET薄膜表面亲水性改性的影响

采用射频容性耦合等离子体(CCP)对聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜进行不同气氛下的表面改性处理,研究氩等离子体和氩/氧混合等离子体对PET薄膜表面形貌、成分、亲水性和结合性能的影响.研究结果表明,氩/氧等离子体处理相较于纯氩等离子体处理,由于氧的化学活性,提升了等离子体的化学作用,处理后PET薄膜表面粗糙度增加,并引入大量含氧官能团,显著提高了薄膜的亲水性,提升了其与金膜的黏结力.     

乙醇-水溶液的渗透蒸发膜分离(英文)

报导一种用于渗透蒸发分离乙醇-水溶液的长寿命复合膜,它是通过在不对称多孔镍基片沉积等离子体聚合物薄层而制成的.根据等离子体聚合条件的不同分离膜可以是乙醇优先透过性的或水优先透过性的,其中等离子体聚吡咯烷膜的水分离系数可达3.7,等离子体聚(N-乙烯基比咯烷酮+甲烷)的乙醇分离系数可达2.7基于多孔镍基片在溶剂中的结构稳定性和等离子体聚合物的交联网络,这种复合分离膜有希望发展成为一种抗溶剂,长寿命的渗透蒸发膜。     

低温等离子体表面改性提高聚四氟乙烯黏结性能

探究不同气体氛围、等离子体放电功率和处理时间对聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene,PTFE)表面黏附性和亲水性的影响,以表征其黏结性能。使用场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscopy,FE-SEM)和X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)表征分析PTFE膜黏结性能改善的机理。结果表明,等离子体处理能提高PTFE膜的表面亲水性,经不同气体等离子体处理后PTFE表面黏附性均有显著提升。FE-SEM分析表明PTFE膜表面粗糙度增加,这是促使其黏结性能提升的原因之一;XPS显示等离子体处理后PTFE膜表面引入新的含氧、含氮基团,这是黏结性能提升的主要原因。     

磷化铟表面介质膜的等离子体生长

本文借助于等离子体辉光放电,采用(1)使InP表面自体氧化;(2)溅射淀积SiO_2;(3)在InP表面上蒸铝膜再氧化等工艺,获得三种介质膜.以下将这三种膜依次简称为膜1、膜2、膜3. 1.实验简述等离子体由GP-B高频感应加热设备产生.自体氧化和铝膜氧化的装置与以前介     

PECVD法制备SiOxNy膜中组份对电学特性的影响

研究了等离子体增强化学气相淀积法制备ＳｉＯｘＮｙ膜工艺中混合气体配双与薄膜中氮、氧含量间的变化关系以及对膜层折射率、介电常数的影响。同时，对研制成的薄膜的ＭＩＳ结构进行了电学测试，探讨了膜层中氮、氧含量变化对薄膜电学特性的影响。     

PECVD技术生长氮化硅钝化膜的条件控制

不同的工艺条件会对薄膜的生长产生影响。使用等离子体增强化学气相淀积方法,对PECVD生长氮化硅钝化膜的工艺条件进行了实验研究,阐述了几种工艺参数对钝化膜生长的影响,获得了生长氮化硅钝化膜的较佳工艺条件,制作出了高质量的氮化硅钝化膜。