三价铬电沉积非晶态Fe-Ni-Cr合金的研究

研究了一种电镀液性能优良、重现性好且利于环保的非晶态Fe-Ni-Cr合金电沉积新技术，采用此技术获得的非晶态Fe-Ni-Cr合金中Fe、Ni和Cr的质量分数分别为45％－55％，33％－37％和9％－23％。利用正交试验法对电镀液的配方和工艺参数进行了优化，采用优化的方法于室温下电沉积20min可得到Fe、Ni和Cr质量分数分别为54.4%,33.9%和11.7%的镜面非晶态Fe-Ni-Cr合金镀层，镀层厚度达11.3μm、维氏硬度达560左右。分别采用等离子发射光谱（ICP－AES）、X－射线衍射、扫描电子显微镜（SEM）和X－射线荧光分析等方法对非晶态Fe-Ni-Cr合金镀层的组成、结构、性能、厚度及其影响因素了检测分析。实验结果表明，镀液组分对合金镀层成分有较明显的影响，而电沉积操作条件则对合金镀层物理性能的影响较为明显。只有当电镀液中含有稳定剂H－W时电沉积所得合金镀层中才有Cr存在，且由于稳定剂H－W与添加剂的共同作用，导致所得Fe-Ni-Cr合金镀层具有非晶态结构。     

pH值对酸性液电镀Zn-Ni合金质量的影响

研究了在酸性液电镀Zn-Ni合金中，pH值对酸性液电镀Zn-Ni合金中合金的镍含量和对镀层表面形貌的影响。研究表明镀层中镍含量总体上随pH值的增大而增加。欲获得全光亮含镍量为12%～14%wt左右的镀层，pH值应选在5.2～5.8之间，最佳为5.6。     

Fe-P非晶态合金电镀工艺和镀层性能研究

测量了以氯化亚铁、次磷酸二氢钠为主盐的电镀Fe－P非晶态合金电解液的性能，包括阴极电流效率、镀液分散能力、覆盖能力和阴极极化曲线。研究了次磷酸二氯钠含量、镀液pH值、添加剂对镀液性能的影响。Fe~（2+）离子的氧化造成镀液不稳定是镀铁及铁合金的一个重要问题，对影响Fe~（2+）离子氧化的因素进行了试验。分析了镀层化学成分，确定了镀层结构，通过差热分析和硬度测量研究了镀层结构的转变。直流电镀所得Fe－P非晶态合金镀层很脆，用交直流迭加电流电镀可以使镀层韧性得到很大改善。     

电沉积FeCoNiCr高熵合金镀层工艺参数优化

利用正交实验方法研究了电流密度、镀液温度、镀液pH值等工艺参数和硫酸铬含量对镀层沉积速率和Cr含量的影响程度。确定了最佳工艺参数为电流密度25 A/dm~2,温度为20℃,pH值为2.5,硫酸铬浓度200 g/L。利用SEM、EDS和XRD对合金镀层表面形貌、成分和微观结构进行了表征。实验结果表明,FeCoNiCr高熵合金镀层为非晶态结构,且镀层平整、光亮、成分均匀,镀层成分(原子分数)为:Fe 22.53%～26.21%,Co 23.65%～28.56%,Ni 19.53%～26.86%,Cr 23.07%～28.60%。FeCoNiCr高熵合金镀层在3.5%NaCl(质量分数)溶液中,自腐蚀电位和自腐蚀电流密度分别为-0.45 V、1.73×10~(-6) A/cm~2,比真空热压烧结的CoCrFeNi高熵合金涂层的自腐蚀电位(-1.08 V)高、自腐蚀电流密度(9.44×10~(-6)A/cm~2)低,因此电镀方法制备的FeCoNiCr高熵合金镀层耐腐蚀性更优。     

电镀非晶态Ni-P合金的研究

采用Ni-P合金阳极在Watt型镀液中电镀,获得了高光洁度、高硬度和耐蚀的非晶态Ni-P合金镀层,建立了最佳工艺条件,并研究了温度、电流密度及镀液中H_3PO_4含量等对沉积速度,合金中磷含量,合金硬度等的影响;对Ni-P合金镀层结构的研究结果表明,采用Ni-P合金阳极,可使合金镀层具有更高的含磷量,且变化范围较小,在研究范围内获得的Ni-P合金均为非晶态结构。     

电沉积条件对Ni-S电极电化学性能影响的分析研究

介绍Ni-S电极的制备,以及电镀时间、电镀电流密度、镀层中硫含量、镀液pH值、镀液温度等对Ni-S合金电极的活性的影响。     

非晶态Fe-Ni-Cr合金的电沉积优化新工艺

采用正交试验法对镜面非晶态Fe Ni Cr合金的电沉积新工艺进行了研究 ,采用X ray衍射和扫描电子显微镜对镀液组分和工艺参数对镀层的影响分别进行了分析及优化 .实验结果表明 ,采用这种优化的新工艺于室温下制备的Fe Ni Cr合金镀层的X ray衍射图仅存在衍射角 2θ在 41°～ 47°之间出现表征非晶态结构的漫射峰 ,扫描电镜 (SEM )图显示镀层表面仅有细小的裂纹而无针孔生成 .该合金镀层中Fe、Ni、Cr含量分别为 5 4.4%、33.9%、11.7% ,镀层外观呈光亮的镜面 ,厚度可达 8.7μm、硬度达 5 30左右 .电镀液性能优良、物理性能稳定且利于环保 .图 2 ,表 5 ,参 2 2     

合金元素对Fe─P非晶志合金电镀层性能的影响

用正交试验法研究了在电镀Fe－P非晶态合金的电解液中分别加入钼酸钠和钨酸钠以制取Fe－Mo－P和Fe－W－P非晶态合金的镀液配方和工艺条件。获得了外观呈银白色、平整光滑的非晶态镀层。比较了镀层硬度和在某些介质中的耐蚀性。     

电镀Ni—P非晶合金的研制

本文研究了在电沉积过程中阴极超电位与形成非晶态的关系。实验结果表明,在阴极极化曲线的平台处易产生非晶态。还讨论了电沉积条件对形成非晶态镀层的影响。在较高的镀液温度,低的pH值及适当的电流密度的条件下,镀液中H_3Po_3含量达到一定的比值,镀层易形成非晶态。镀液中H_3PO_3含量越高,镀层中的磷含量越高,当磷含量超过9％时形成非晶态,且镀层的耐蚀性随其磷含量的增加而增强。热处理温度对镀层的影响也做了检验。     

用电镀法确定获得Ni-P非晶镀层的条件

本文讨论了在选择适当电镀液的基础上,改变镀液的PH值、温度、阴极电流密度等不同条件获得Ni—P非晶态镀层,并测定镀层中含磷量、阴极电流效率以及分析镀层结构确定获得Ni—P非晶态镀层的最佳条件。     

铬镀液中CrO3的电化学还原

通过对酸性铬镀液的电化学测试以及对电极表面的XPS分析,发现在金属铬沉积前,铜阴极上发生多步骤的铬酸电还原反应,其中间产物与电极表面发生化学作用,形成主要成分为CuOCrOH的氧化膜;与此同时,电极表面附近形成阴极膜,氧化膜及阴极膜的存在引起异常的循环伏安图和负阻现象。     

镍基合金和铬在高温下的腐蚀电化学特征

利用动电位极化和电化学阻抗(EIS)方法,分别研究了纯铬以及镍基合金UNS N08028在140℃和160℃两种温度下高含H2S/CO2环境所成钝化膜的电化学行为.结果表明:两种成膜条件下028合金钝化膜的耐蚀性优于纯铬.EIS表明电化学阻抗谱均有明显的容抗弧特征,028合金显示单一的容抗弧,纯铬在低频区显示扩散阻抗控制.     

电絮凝法处理电镀废水中Crn+、Cu2+、Zn2+的试验

针对电镀废水对生态环境的严重污染问题,提出了铝板作为极板的电絮凝设备处理电镀废水中的重金属离子Crn+、Cu2+、Zn2+,研究了初始pH值、电流密度、电极间距等因素对处理效果的影响.试验结果表明,在电絮凝过程中,初始pH值在4-8之间时,金属离子的去除率最好,但当初始pH值超过8时,铬的去除率有所下降;并且随着电流密...     

铜镀层对IC引线框架表面抗氧化失效的作用

研究了在铜合金表面电镀纯铜层保护膜对铜合金引线框架氧化失效的影响.研究发现,电镀纯铜层后,纯铜层氧化速率较高,氧化膜较厚,然而,由于纯铜层的阻挡作用,可以使氧化只发生在纯铜层上,减少CuO的生成.当铜合金表面的电镀纯铜层厚度超过一个临界值,表面电镀纯铜处理可以明显改善材料的耐氧化剥离性.表面电镀前的铜合金氧化膜结构为CuO/Cu2O/Cu.电镀纯铜层后,氧化膜结构变为Cu2O/Cu,当氧化膜主要由Cu2O构成时,氧化膜结合强度较高.     

电镀Zn-Ni-Mn合金镀层的电化学还原机理

为探索Zn-Ni-Mn合金镀层共沉积的电化学还原行为及电结晶机理,采用阴极极化法、循环伏安法和恒电位阶跃法研究了镀液组分浓度、镀液温度及p H值变化对Zn-Ni-Mn合金镀层共沉积的影响及Zn-Ni-Mn合金镀层共沉积的电化学还原行为。结果表明:增大主盐浓度、减小络合剂及光亮剂浓度、升高镀液温度、减小p H值均可减小阴极极化,促进Zn-Ni-Mn合金镀层共沉积;与单一金属相比,合金镀层更易沉积,且无论是单一金属沉积还是Zn-Ni-Mn合金镀层共沉积均经历了形核过程。Zn-Ni-Mn合金镀层沉积的形核方式属于扩散控制下的三维连续形核。     

镁合金磷化工艺及耐蚀性研究

采用磷酸盐体系对镁合金表面进行磷化处理,并对磷化配方进行优化．利用扫描电镜（SEM）观察膜层形貌,用极化曲线方法对不同工艺下得到的磷化膜进行耐腐蚀性能分析．结果表明,镁合金表面经过优化配方处理后,磷化膜均匀、细小、致密,膜层主要由锰的磷酸盐构成,富含氧、磷、锰等元素,完全不合Mg和Al．优化配方磷化后的镁合金表面在3．5％NaCl溶液中浸泡24h,耐腐蚀性能显著提高,并确定了最佳工艺条件为：温度60℃、时间60min、pH值3．     

离子镀Pb-10%Sn膜的摩擦性质

通过选择镀膜工艺参数,制得了含量为Pb-10%Sn的合金膜.薄膜晶粒随膜厚增加而增大.合金膜与纯Sn膜表面形貌有着明显的不同,合金膜的显微硬度随膜厚增加而减小,合金膜和纯Sn膜的综合摩擦系数与磨损寿命都受到膜厚的影响.薄膜的磨损失效是由于膜向对偶材料的粘着和转移造成的.     

化学氧化还原-中和-絮凝沉淀法处理含铬电镀废水的研究

研究了以硫化钠(Na2S)为还原剂的化学氧化还原-中和-絮凝沉淀法处理含铬废水.通过单因素及正交实验,确定最佳工艺条件为:反应pH为1.6,200 mL模拟水中加入Na2S 1.1 g,反应时间为90 min.用石灰粗调碱液精调的方式调节,在pH值为8.6～9.0时,总铬的去除率在98.77%以上,达到国家污水排放标准...     

直流磁控溅射铬膜附着性的影响因素研究

讨论了采用直流磁控溅射法在锆合金表面镀铬时，基体的粗糙度、退火工艺、薄膜厚度及溅射前的基体离子轰击对铬薄膜附着性的影响。以自动划痕测试仪测试样品的膜/影基结合力，结果表明：退火处理能大幅度增强铬膜的附着性；薄膜厚度的增加却会使其附着性降低；而基体粗糙度对附着性并无大的影响。     

电流参数对Fe-P非晶态电镀层韧性的影响

研究了用交、直流迭加电流和周期换向电流电镀Ｆｅ－Ｐ非晶态合金时，电流参数对镀层韧性的影响。当电流的阴极部分和阳极部分的比例适当，可以使镀层韧性得到很大的改善。