计算两个凸多面体间距离的一个新算法

文章讨论了计算两个凸多面体间的距离的问题。首先分析了不相交凸多面体间的距离的特点，证明了该距离恰是其公垂线段的长度，再利用正交投影把确定此距离转化为一个优化问题。给出了此优化问题的两种解法——5变量的线性观划算法和2变量的区域搜索算法，并对计算复杂性进行了分析。该方法的优点是存储量小，只需存储凸多面体的顶点信息，并可推广来确定移动凸多面体间的距离及一个凸多面体的最大(小)跨度。     

可纠错pooling设计的一个构作

一个非时序性群试(NGT)算法在DNA筛选等领域都有重要应用,而NGT算法的一个数学模型是d-disjunct矩阵.通过Bd(δ**(n,d,k))的Hamming距离构作一个d-disjunct矩阵,其中δ**(n,d,k)是在δ(n,d,k)的基础上加上δc(n,α,k)构成的,1≤α≤m+1且α∈Z;证明了所构作的矩阵是可纠正1个错误、检测2个错误的d-disjunct矩阵.     

正交阵列与覆盖设计

本文给出了一类正交设计的代数结构；引入了覆盖设计、分离度等概念；并证明了一类正交设计的若干最大覆盖性质。     

多粒度直觉二元语义的多准则群决策方法

定义了直觉语言集、直觉语言数和直觉二元语义,以及直觉二元语义的Hammang距离。针对语言评价集有多个粒度、准则值为直觉语言数的问题．提出了一种多准则决策方法。该方法通过新的转化函数实现多粒度语言评价集的一致化,进而得到每个评价矩阵中各方案的相对理想解的隶属度．最后计算各方案相对理想解的综合隶属度。通过比较隶属度的大小得到方案集的一个排序。实例表明该方法的有效性和可行性。     

正交阵列与覆盖设计(B)

文献「１」给出了一类正交设计的代数结构，引入了覆盖设计，分离度等概念，并证明了 一类正交设计的若干最大覆盖性质。     

余因子系与公因子分次判别准则

引进了余因子系的概念,并利用余因子系给出一种惟一分解环上多项式系公因子存在性的分次判别准则,为在计算代数几何等领域的深入应用提供了理论依据.     

顶杆脱模机构中顶杆的经验设计准则

在国家及行业标准的基础上，结合生产实践中的经验体会，就简单顶杆脱模机构中顶杆的设计论述了其经验准则。     

自由模型下单因子检验的判别准则

试图提供并完善一套对自由模型下单因子试验进行设计与分析的新方法,并对其进行严格的理论推导和证明．作为系列论文的第二篇,给出了自由模型下单因子试验的方差分解定理,并利用贡献率指标（也称为全局敏感性指标）得到了自由模型下单因子检验的判别准则．     

基于绿色设计准则的塑料门窗铣削机设计

介绍了绿色设计在技术先进性,环境、材料和结构等方面的准则,并运用于塑窗锯铣加工中心的铣削机设计中,表明绿色设计可从技术上保证安全,可靠,经济地实现产品的各项功能和性能,同时只有在设计阶段将产品的“绿色度”作为设计目标,才能取得理想的设计结果。     

3水平因析设计的某些结果

推广了J特征的定义,并证明了一个3水平部分因析设计由它的J特征唯一决定.主要结果是一个显式,它把设计点构成的集合与设计的J特征联系起来.通过这个公式,给出了G2最小低阶混杂的投影证明.     

两水平部分因析设计的最小低阶效应混杂准则(英文)

根据效应分层原理,低阶效应比高阶效应更重要.在这种情况下,以别名集的结构为基础,提出了最小低阶效应混杂准则对2n-m设计进行排序.研究了新准则与其它最优性准则,即最大分辨度、最小低阶混杂、纯净效应和最大估计容量准则的联系.给出了具有16和32个水平组合的最小低阶效应混杂设计.     

二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性

讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准.     

正规S -水平部分因子设计的折叠翻转

利用示性函数,研究了正规 s -水平部分因子设计的折叠翻转,得到了它的一般性质.     

无重复实验的饱和析因设计分析方法的迭代分析

Dong93方法分析无重复实验的饱和析因设计时,用调整的标准误差ASE来估计r,通过SAS/IML语言的模拟研究发现,对ASE增加迭代的步骤,可以显著地提高检验效能.     

正交饱和设计中广义似然比检验的势函数(英文)

在试验误差服从正态分布的条件下,为Al-Shiha和Yang提出的正交饱和设计逐步检验法确定了一个势函数．该方法是由正态假设下的广义似然比检验统计量导出的,原先只能通过随机模拟来与其他方法比较．通过本文导出的势函数解析式,使得有可能将该方法与著名的Lenth方法等进行精确比较．     

分区组设计的一般最小低阶混杂准则的某些结果(英文)

一般最小低阶混杂准则是一个判断分区组设计好坏的新的最优性准则,一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计的构造是一个重要的问题.对一个分区组设计,本文给出了它的与饱和设计Hq中的某个列γ混杂的三阶处理交互作用的个数的表达式,这些结果在构造一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计时是有用的.     

Pitman准则下带有半序约束的最大似然估计的优良性

利用正态总体的性质, 证明了当二维正态总体的均值满足一个或两个线性不等式约束时, 其线性函数的最大似然估计在Pitman准则意义下优于无约 束时线性函数的最大似然估计.     

2n-m设计的一般最小低阶混杂准则的新表示

给出了一般最小低阶混杂准则的一个新的表示形式,讨论了一般最小低阶混杂准则的新形式与几个现存准则的关系.     

二水平设计离散偏差和对称化L_2偏差紧的下界

基于现有的均匀性测度公式,利用Langrange乘数法和Taylor公式得到二水平设计离散偏差和对称化L2偏差紧的下界,最后通过2个例子来验证其结论.