AuSi 液态金属离子源

为了进行Ｓｉ聚焦离子束微细加工技术的研究，研制了ＡｕＳｉ液态金属离子源制备设备及其分析设备，制成了实用化的ＡｕＳｉ合金源，得到了制备该合金源的成熟工艺，利用Ｅ×Ｂ质量分离器分离出Ａｕ和Ｓｉ离子束，对源的一些特性如电流—电压曲线、加热功率—发射电流曲线、束流质谱及源的寿命作了分析。该源结构采取同轴针型，合金槽的材料为钼，发射尖为钨丝。源正常工作时的加热方式为间接加热式。该源与带质量分离器的聚焦离子束系统结合，将迈开亚微米Ｓｉ离子束加工的第一步。并为今后研究其它合金源提供经验。     

1，1′─［四甲基二硅撑］双（环戊二烯基三羰基钨配合物）的合成及反应

１，２－二环戊二烯基四甲基二硅烷与丁基锂作用生成［四甲基二硅撑］双（环戊二烯基负离子盐），后者随即与六羰基钨反应形成１，１－［四甲基二硅撑］双［环戊二烯基三羰基钨负离子盐］，（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）·［Ｃｐ′（ＣＯ）３Ｗ－］２·２Ｌｉ＋（Ｉ）．（Ｉ）分别与六种卤化物反应，生成在钨原子上引入取代基的产物：（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）．［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３Ｒ］２，（Ｒ：Ｍｅ，Ｃ２Ｈ５，２；ＰｈＣＨ２，３；ＣＨ２ＣＯＯＣ２Ｈ５，４；ＣＨ３ＣＯ，５；Ｐ３ｈＳｎ，６）．（Ｉ）用醋酸处理后，随即分别与ＣＣｌ４，ＮＢＳ及Ｉ２作用，生成相应的钨卤化物，（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３Ｘ］２，（Ｘ：Ｃ１，８；Ｂｒ，９；Ｉ，１０），（Ｉ）与Ｆｅ３＋／Ｈ３Ｏ＋作用发生氧化偶联，生成双核Ｗ－Ｗ键产物（Ｍｅ２ＳｉＳｉＭｅ２）［Ｃｐ′Ｗ（ＣＯ）３］２，１１．（Ｃｐ′＝Ｃ５Ｈ４）     

ESTABLISHING AN ORGANIC CHEMISTRY MICROSCALE LABORATORY PROGRAM

ＥＳＴＡＢＬＩＳＨＩＮＧＡＮＯＲＧＡＮＩＣＣＨＥＭＩＳＴＲＹＭＩＣＲＯＳＣＡＬＥＬＡＢＯＲＡＴＯＲＹＰＲＯＧＲＡＭ￥ＡｒｔｈｕｒＲ．Ｍｕｒｄｏｃｈ（ＭｏｕｎｔＵｎｉｏｎＣｏｌｌｅｇｅ，Ａｌｌｉａｎｃｅ，Ｏｈｉｏ，ＵＳＡ）（Ｖｉｓｉｔｉｎｇｐｒｏｆｅｓ...     

非晶态合金的自旋波激发与结构涨落及超精细场分布

本文研究了非晶态（ａ）－Ｆｅ－ＴＭ－Ｓｉ－Ｂ（ＴＭ＝Ｃｏ，Ｓｉ，Ｍｏ，Ｎｂ）合金从１．５Ｋ到３００Ｋ的磁化强度及室温穆斯堡尔谱，得到了成里温度Ｔｃ、饱和磁化强度σｓ（０）、自旋波颈度常数Ｄ及平均超精细场等。结果表明，（ａ）对于Ｆｅ８３Ｓｉ５Ｂ１２，当Ｎｂ，Ｍｏ与Ｓｉ，Ｃｏ取代Ｆｅ后，Ｆｅ－（Ｎｂ，Ｍｏ）－Ｓｉ－Ｂ的磁性质不同于Ｆｅ－（Ｓｉ，Ｃｏ）－Ｓｉ－Ｂ；（ｂ）ａ－Ｆｅ－（Ｍｏ，Ｎｂ，Ｃｒ，Ｗ，     

静高压在多层Al／Fe—Mo—Si—B纳米合金复合材料…

在３￣５．５ＧＰａ的压力范围内，经过８７３Ｋ，３０ｍｉｎｈ等温热处理由非（Ｆｅ０．９９Ｍｏ０．０１）７８Ｓｉ９Ｂ１３（ＦＭＳＢ）条带和纯金属Ａｌ片交替叠成的样品，制备出多层Ａｌ／Ｆｅ－Ｍｏ－Ｓｉ－Ｂ纳米合金复合材料。研究了静高压在复合材料制备中影响非晶ＦＭＳＢ合金晶化相，Ｆｅ－Ｍｏ－Ｓｉ－Ｂ纳米合金晶粒度和Ａｌ／Ｆｅ－Ｍｏ－Ｓｉ－Ｂ复合材料界面相的规律及机制。     

喷射沉积Al-20Si-5Fe-3Cu-Mg

利用喷射沉积技术制备了Ａｌ－２０Ｓｉ－５Ｆｅ－３Ｃｕ－１Ｍｇ合金,借助扫描电镜（ＳＥＭ）,Ｘ－射线衍射和拉伸试验等手段研究了喷射沉积合金的微观组织和力学性能,分析了Ｆｅ对合金挤压和热处理后的组织变化,拉伸试验结果表明,喷射沉积Ａｌ－２０Ｓｉ－５Ｆｅ－３Ｃｕ－１Ｍｇ合金具有比粉末冶金Ａｌ－２０Ｓｉ－３Ｃｕ－１Ｍｇ合金更高的高温（３００℃）强度。     

算子双半群及其应用

算子双半群及其应用许跟起，王胜华（山西大学数学系）（上饶师专数学系）关键词Ｂａｎａｃｈ空间，算子双半群，应用ＢＩ－ＳＥＭＩＧＲＯＵＰＯＦＯＰＥＲＡＴＯＲＳＡＮＤＩＴＳＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯＮＳ￥ＸｕＧｅｎｑｉ；ＷａｎｇＳｈｅｎｇｈｕａ（Ｄｅｐａｒｔｍｅ...     

环戊二烯基二羰基铁碘化合物与相应铁负离子反应的再探讨

硅基取代环戊二烯基二羰基铁负离子［η＾５－ＲＣ５Ｈ４Ｆｅ（ＣＯ）２］＾－（Ｒ＝ＳｉＭｅ３，Ｉ；Ｓｉ２Ｍｅ５，Ⅱ）与铁碘化合物（η＾５－Ｃ５Ｈ５）Ｆｅ（ＣＯ）２Ｉ反应，除得到新的Ｆｅ－Ｆｅ化合物外，还分离到另两种母体Ｆｅ－Ｆｅ化合物；桥连化合物（η＾５，η＾５－Ｃ５Ｈ４ＳｉＭ３２ＯＳｉＭｅ２Ｃ５Ｈ４）［Ｆｅ（ＣＯ）２Ｉ］２（６）与铁负离子［η＾５－Ｃ５Ｈ５Ｆｅ（ＣＯ）２］＾－（Ⅲ）的反应，仅分离到各     

山东平阴地区中元古代层状硅质岩热水沉积地球化学特征及沉积环境意义

在山东平阴地区中元古界地层中存在与地层整合产出的层状硅质岩。硅质岩富Ｆｅ、Ｍｎ，相对贫Ａｌ；富集Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｇａ；ＲＥＥ总量低，Ｃｅ负异常，ＨＲＥＥ相对富集；δ３０Ｓｉ变化范围为－０．１‰～０．４‰，δ１８Ｏ变化范围为＋１３．６‰～＋２０．１‰，具有热水沉积硅质岩的地球化学特征。在Ａｌ－Ｆｅ－Ｍｎ和Ｆｅ－Ｍｎ－（Ｎｉ＋Ｃｏ＋Ｃｕ）三角图上均属热水沉积硅质岩。硅质岩ＭｎＯ／ＴｉＯ２比值、δＣｅ值和δ３０Ｓｉ值分析表明本区层状硅质岩主要是在深海环境下沉积的。     

FeCl3—Al（i—Bu）3—Phen催化机理的研究

研究了ＦｅＣｌ３－Ａｌ（ｉ－Ｂｕ）３－Ｐｈｅｎ胶体催化剂在２５℃加氢汽油中,单、多组分按不同配比混合非水体系的电导率与浓度的关系,并测定相应的紫外、可见光谱。实验结果表明,Ａｌ（ｉ－Ｂｕ）３以缔合状态存在并解离成离子对,它与ＦｅＣｌ３作用是形成胶粒的主要反应,Ｐｈｅｎ与Ｆｅ＾３＋络全有阻止Ｆｅ＾２＋被还原更低价态的作用。适当过量的Ａｌ（ｉ－Ｂｕ）３形成双电层,使催化剂胶粒稳定,同时将Ｆｅ＾３＋还原     

铜的离子浮选和溶剂浮选

以浮选过程中存在各种离子平衡为基础,从理论上推算出浮选Cu~(2+)稀溶液的最佳pH范围,并为浮选实验所证实。将C_(12)H_(25)SO_4Na(NaLS)与Cu(LS)_2作为理想的表面活性剂混合物,通过表面张力测定,算得离子对平衡常数K与Cu(LS)_2的表面过剩摩尔分数X_(Cu(?)LS_z)~3的值分别为1.77×10~3与0.917。在pH=5.6条件下,以铜萃取剂加在溶剂中的溶剂浮选,比离子浮选和溶剂萃取具有更佳的分离效率,其效率可达91.6%。     

Fe离子注入ZrO2的研究

陶瓷材料的表面性能在很大程度上取决于其表面条件.例如:陶瓷的表面微裂纹影响着机械强度,而磁学及电学性能则对其表面结构及化学成份非常敏感.近年来离子注入法已经开辟了研制现代材料的新途径,并被广泛应用于金属、半导体及部分聚合物材料中.对于陶瓷材料,目前大多数有关这方面的研究集中于改善陶瓷表面的机械性能,很少有论文涉及其表面电性能的改善.本文介绍了一种改善ZrO2陶瓷表面导电性能的新方法.ZrO2陶瓷是绝缘体,常温下其电阻率大于1012Ωcm.通过不同剂量的离子注入可以使得样品表层产生不同程度的电性能变化.试验表明,当采用2×1017Fe/cm2注入,并在950℃下真空退火30分钟,ZrO2的表面电阻率将下降十余个数量级,从而大幅度提高了样品的导电性.文中还通过应 用X射线衍射及光电子能谱技术,分别对注入元素的化学结合状态及表面注入层的结晶相进行了较为详细的讨论.从XPS测试发现,注入离子在ZrO2表层中以Fe2+、Fe3+及Fe0三种形式的状态存在;X射线衍射数据表明,注入层中除ZrO2主晶相外,还存在少量的FeZrO3等晶相.文章的最后部分讨论了离子注入样品的导电机制.     

Penning阱中离子谱的优化

根据Penning阱存储离子的探测原理，系统分析了阱内离子信号及信号本身的噪声、实验仪器及探测电路的噪声干扰，采用适当的品质因数、电子束流和载波振幅,得到较高信噪比和分辨率的离子谱。为深入开展Hn+(n≥3)离子的形成机制、离子与中性气体原子或分子碰撞过程等问题的研究创造了更好的条件。     

珍珠水解液中钙离子含量的离子选择电极测定方法

用离子选择电极法分别对标准溶液中钙离子含量，电极检测性能及pH值对离子选择电极的影响等进行了一系列测定和讨论，提出了离子选择电极测定珍珠水解液中钙离子含量的方法．同时将离子选择电极法和原子吸收法测定样品的结果加以了比较．该方法所用仪器易普及，适用于中小型企业进行产品的测试．     

聚焦离子束无掩膜注入单晶硅离子浓度深度分布的研究

随着聚焦离子束(focusedion beam,FIB)无掩膜微细加工能力的迅速发展,结合精确定位能力,FIB已成为新型且出色的纳米制造工具.对FIB无掩膜注入单晶硅衬底的注入效果与离子束流、注入剂量的关系进行研究发现,以固定能量注入的离子,当注入剂量恒定,离子浓度随深度的分布与离子束流大小无关;当离子束流恒定,注入离子的表面浓度随注入剂量的增加而增加,但是由于FIB注入的同时会刻蚀材料表面,注入剂量达到饱和值后,会造成材料一定程度的减薄.     

箍缩反射离子二极管的研制

采用箍缩反射离子二极管,使阴极发射的电子多次穿过阳极膜并向轴线箍缩,增加了它在二极管中的平均渡越时间,从而提高了离子流产生效率。根据顺位流模型。设计了２００ｋＶ强流脉冲离子束加速器的箍缩反射离子二极管,得到了峰值为１．６ｋＡ,脉宽约２０ｎｓ的离子束流。     

城市废水中氯及硫酸根等离子的处理

在简述水中阴阳离子去除方法的基础上,详细阐述了离子交换理论以及离子交换树脂的组成、内部结构、性质、选择、工艺以及水中离子检测方法等,提出了废水中氯及硫酸根等离子处理的设计方案。     

高频离子源物理参数对离子束性能的影响

作者从静电加速器用高频离子源的结构出发,通过实验台上的调试,测试并分析了振荡器板压、气压和引出电压对离子束性能的影响.结果表明,在575 V板压、7.7×10-4Pa气压、1.6 kV引出电压和21 kV聚焦电压的状态下,可得到束流为169μA、质子比为88%的稳定离子束.     

铜离子浮选的动力学

发现铜离子的浮选符合零级反应动力学，并求出其速度常数ｋ０。当ｐＨ一定时，ｋ０与流量Ｑａ成正比，即ｋ０＝ｍＱａ。在ｐＨ＝２～５的范围内，符合ｍ＝１．３７０×１０＾－５ｌｎ（ｐＨ／１．２２２）的关系。ｐＨ＝５时ｍ最大，ｐＨ＞５则下降，从而得出了ｋ０＝１．３７０×１０＾－５Ｑａｌｎ（ｐＨ／１．２２２）。从单泡吸附模型出发，从理论上提出了浮选效率（ηｆ）关系式，可用以评价表面活性剂的浮选效果及工艺条件如流     

EDTA滴定钙镁离子时铁(Ⅲ)离子的干扰及其排除

铁(Ⅲ)离子对滴定钙、镁离子的干扰原因是其对指示剂的配位封闭作用。延缓指示剂的加入或滤去氢氧化铁沉淀均可排除干扰。