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技术转移是典型的过程型创新。笔者从探讨如何有效推动技术转移入手,分析阐述了技术转移需要的六类人才、六种中介和六个技术评价参量的具体内涵,并通过分析六个参量的合理性最终实现技术顺利快捷地进入市场,投入到生产应用。 相似文献
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本文认为《经行记》所载的末禄国寻支瓜就是西瓜,唐朝杜环是史籍中第一位在域外目睹、食用并记录西瓜的中国人。五代时期的胡峤是史籍可考的第一个在中国本土食用西瓜的人,他“始食西瓜”在辽大同元年(947)秋夏历八月十五日前后,具体地点为今内蒙古自治区赤峰市阿鲁科尔沁旗政府驻地天山镇附近,来源则是天赞三年(924)“拔浮图城”时“契丹破回纥得此种”。浮图城的西瓜直接或者间接地来自西州回鹘都城高昌(今吐鲁番)。契丹(辽)“以牛粪覆棚而种”西瓜之法源自汉地,这是一种风障和温室覆盖相结合的栽培方法,对传统蔬菜保护地栽培技术进行了移植和发挥,且种瓜者当为汉人。洪皓最早将西瓜成功引种到江南,时间为宋高宗绍兴十三年(1143)夏历八月。中国南方最早种植并收获西瓜的时间在绍兴十四年(1144)。出土的西夏文献汉文《杂字》所载“大石瓜”即为西瓜,来自所谓的“大石国”,即喀喇汗王朝。此“大石瓜”与契丹所得西瓜同源,均在893—915年间由萨曼王朝向喀喇汗王朝传入。 相似文献
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纳米压印光刻(Nano Imprint Lithography,NIL)是面向45nm以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一。基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术,是非常有希望成为未来光刻技术的主流工业技术。多层纳米压印套印对准技术是基于常温紫外纳米压印设备的核心关键技术,该技术是制约紫外纳米压印光刻技术,广泛应用于半导体制造并促其成为主流光刻技术的瓶颈。将并联机构引入纳米压印装备的研制之中,进一步提升纳米压印设备中掩模台和工件台之间的对准精度和定位精度。 相似文献
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该文依据历史文献上记载的宋代和金代的几部已经佚失的历法的若干残缺数据,对其中王睿、至道、乾兴与乙米四历的历元及其历取回归年与朔望月常数进行了考证和可靠的校算,得到了王睿、至道二历的相应历取值,验证了鲁实先、严敦杰先生关于乾兴历的推算,校证了李锐关于乙未元历回归年长度的失误等。 相似文献