周期性脉冲切换电镀电源

介绍一种可用于金属构件电镀的周期脉冲切换电源。通过对电镀阻抗输入频繁切换的正、反向电流，使镀层结合力强，组织细密，均匀性好。     

APCP-150镀银智能监控脉冲电镀电源的研制与应用

国产脉冲电镀电源采用手动调节参数,因此在设定好上述参数之后,只能实现单一参数的脉冲波形进行电镀;某些国外电镀电源虽然实现了程控,但也存在一定的缺陷,如脉宽调节范围较窄,脉冲频率不可调,不能实现监控等。针对上述缺陷,新研制成功的APCP-150智能监控脉冲电镀电源针对如何解决电镀恶劣环境对脉冲电源本身的腐蚀而造成质量隐患,以程控技术和斩波技术为主要手段,以大功率半导体器件为主开关器件,通过PLC输出各种频率脉冲信号进行智能控制,并能进行电流监控和脉宽监控,且针对恶劣的电镀环境,创新设计脉冲电源的防腐蚀装置,在镀银生产实际中提高了镀件的质量,减轻了劳动强度和节省了耗材,创造了良好的经济效益。     

脉冲电镀中阴极电流分布规律

基于简化的扩散模型，以金属分布近似代替电流分布并用Ｗａｇｎｅｒ数作为评定标准，通过在平板电极和旋圆盘电极上脉冲镀铜实验，详细研究了一次、二次和三次电流分布的影响。     

对于开关稳压电源中阶跃脉冲的过程分析

开关电源的开关是受矩形方波的作用而实现瞬时导通和截止的，可以认为整个开关电源是由阶跃脉冲来完成开关稳压的电子器件。本文通过理论分析确定开关稳压电源中电压和电流的变化过程。     

双脉冲电位法制备铜镍层状结构材料

采用旋转圆盘电极，用双脉冲电位法从简单的镀液中电沉积Ｃｕ－Ｎｉ层状材料，研究了镀液中铜含量、添加剂、转速对镀层的组成和结构的影响，并用扫描电镀和Ｘ－射线衍射研究了镀层的形貌和组成。     

高频脉冲电镀镍钴合金的内应力

研究了脉冲频率、硫酸钴浓度对高频脉冲电镀Ni-Co复合镀层微观形貌与内应力的影响.高频脉冲电镀获得的沉积层表面比直流电镀致密、均匀、孔隙率低、内应力低.随脉冲频率的升高,Ni.C0镀层的内应力先减小后增加,并在80 kHz取得最小值.随硫酸钴浓度的增加,镀层的内应力先增大后减小,在30g/L取得最大值.     

小功率脉冲电镀仪在高效硅太阳电池中的应用

研制出用于制备空间硅太阳电池上电极的小功率脉冲电镀仪，该电镀仪脉冲电流的频率和占空比具有较宽的调节范围，满足高效率硅太阳电池脉冲电镀的要求，与国内，外普遍采用的真空蒸镀硅太阳电池上电极相比较，脉冲电镀可以制备更窄的栅指电极，电池上电极的遮光损失从７％￣９％降低到３％。     

双端脉冲式变压变频电镀电源研制

概括了传统电镀电源应用时存在的主要问题,研制了双端脉冲式变压变频电镀电源.该装置主回路由可控硅调压和IGBT斩波变换器组成,控制回路采用了性能优良的专门应用于实时控制领域的数字信号处理器TMS320F240.实验结果表明,在金属及其合金表面生成陶瓷层的阳极氧化方法中,该系统能很好的实现电压波形变换和宽范围的脉冲参数调节.     

高压脉冲电絮凝法处理电镀废水

在电解槽中将铁板作为电极,探讨了高压脉冲电絮凝技术处理含Cr3+,Cr6+和Zn2+的电镀废水,并与直流电絮凝方法作了对比.实验结果表明,高压脉冲电絮凝法处理的工业电镀废水出水水质较好,在最优条件下,处理后的废水中总铬和Cr6+含量均为~0.1 mg/L,Zn2+含量为~0.6 mg/L,pH=8.3,均达到国家规定的排放标准水平.该法运行方便,处理时间短、与直流电絮凝法相比能量效率高,是较理想的电镀废水治理工艺,具有很好的推广应用价值.     

脉冲电流在选择性电镀中的应用

研究了选择性脉冲电镀中的金属分布规律,以局部酸性镀铜为例讨论了脉冲峰值电流密度和工作比对铜镀层金属分布的影响。最后根据测得的极化曲线从Wagner常数的角度进一步证实了选择性脉冲电镀中的电流分布规律。结论为:在极间距较小情况下,在高脉冲电流密度下施行选择性脉冲电镀,将大大提高镀层的定域性和集中性。     

基于双PWM技术的通信基站稳压电源的设计与实现

提出一种新的基于双PWM技术的新型通信基站稳压电源的拓扑结构,并对这种拓扑结构的主电路和工作原理进行了介绍,对其功率流进行了分析.与传统的交流稳压器相比,它具有高效节能、快速调节、三相自动平衡、无碳刷磨损及机械故障等优点,还可以克服由晶闸管构成的交流稳压器存在的环流故障.最后通过实验验证了该方案的可行性.     

氖脉冲双步光电流效应

本文报导了Ne脉冲双步光电流效应的实验,分析了光电流讯号与两束激光光强、所涉及的两步光学跃迁振子强度的关系.对1S_5→2P_2←1S_2的光电流讯号,提出了与Shuker等人不同的解释,我们认为它是一个双步激发过程。     

脉冲无氰电镀在硅基RF-MEMS滤波器中的应用及优化

针对硅基RF-MEMS带通滤波器制备过程中金层电镀沉积工艺,基于亚硫酸金盐无氰电镀液,并结合脉冲电镀技术,通过对电流密度、占空比、正负脉冲时间比、脉冲频率、温度、搅拌速率等相关工艺参数进行优化组合,实现了所设计的硅基双层自屏蔽式RF-MEMS带通滤波器制备与测试,也为相关RF-MEMS器件制备提供了工艺指导.      

脉冲电镀制备Ni-Mo合金镀层及其析氢性能

研究了脉冲电镀法制备Ni-Mo合金镀层过程中电镀条件对Ni-Mo合金镀层组成、表观形貌以及析氢性能的影响.当n(Ni)∶n(Mo)<1时,随着钼盐的加入,镀层中的Mo含量逐渐下降,镀层的析氢过电位升高;利用脉冲电镀制备的Ni-Mo合金镀层均匀、平整、致密,其中w(Mo)在30%左右的Ni-Mo合金镀层呈非晶态结构,具有更高的催化活性(80℃,η200=62 mV)以及较高的耐蚀性.经100 h电解后(33%NaOH溶液中),镀层非晶态结构被破坏.随着Mo的溶出,镀层孔隙率增大并出现鼓泡现象.     

双极性高频高压方波脉冲电源研究述评

为推动双极性高频高压方波脉冲电源的研究和发展,对双极性高频高压方波脉冲电源的应用领域和发展概况进行归纳。以固态电力电子开关器件为基础,总结了几种主要的技术实现方案并加以述评,以及对改善脉冲电源使用性能的相关技术进行了简要介绍。对现今依然存在的问题做出阐述,并对未来发展趋势进行了展望。     

一种双脉冲泵浦的激光电源控制电路

给出一种泵浦YAG激光器电源,它包括一个简单、可靠的电压控制单元和具有谐振充电网络的双脉冲泵浦系统,这种电路具有电压可调范围大和重复率可调的优点,分析了控制电路的特点,并给出了试验装置。     

双脉冲TEACO_2激光器谐振腔结构分析

本文描述了由共用同一光学谐振腔结构的两组电极产生时间间隔可调脉冲的双脉冲TEACO_2激光器,在共腔结构上研究了获得单模运转的方法,认为选择纵膜采用光栅复合腔,选择TEM_(mn)模采用平一凹稳定腔以及在光腰位置插入一定大小孔径光阑比较适宜。     

一种基于双传输线的纳秒脉冲源的研制

采用双传输线发生纳秒级方波脉冲,设计了一种用来模拟核电磁脉冲在电路中激励的干扰信号的纳秒脉冲信号源,进行抗EMP试验。脉冲源由直流高压源、触发控制电路和脉冲形成电路三部分组成。试验中脉冲测量系统设计应注意阻抗匹配,电缆影响,抗干扰等问题。在负载不匹配情况下工作时信号具有较大波动且传送效率降低;负载匹配时,优化后的系统所获得的方波信号前沿1.4ns,脉冲宽度为50.6ns。     

微细电火花加工脉冲电源及其脉冲控制技术

为了提高微细电火花加工效率,通过分析微细电火花加工特点,改进了主放电回路,设计了一种基于现场可编程门阵列（FPGA）的微细电火花加工脉冲电源.该电源集成了放电状态检测功能,能够判断每一个脉冲的放电状态,并及时切断有害脉冲.设计了应用于微细电火花加工的清扫脉冲回路,可在极间加载高能量窄脉宽的清扫脉冲,以清除积聚在极间的加工屑.利用该电源在桌面式微细电火花加工机床上进行了微细深孔加工实验和微细孔极限加工实验,取得了较好的加工效果.     

微机控制高频脉冲列实现晶闸管“双窄脉冲触发”的研究与应用

运用冲量定理深入分析了高频脉冲列触发晶闸管的机理;通过建立励磁回路和晶闸管触发回路数学模型,由晶闸管开通时间、擎住电流、励磁回路与触发回路模型参数等数据,计算出感性负载下晶闸管触发的最小脉冲宽度和高频脉冲列周期与脉宽,据此设计出微机控制高频脉冲列晶闸管“双窄脉冲触发”程序.样机试验表明,晶闸管三相可控整流桥各路高频脉冲...