首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具
引用本文:甘学温,杜刚,肖志广. 实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具[J]. 北京大学学报(自然科学版), 2002, 38(5): 713-718. DOI: 10.3321/j.issn:0479-8023.2002.05.019
作者姓名:甘学温  杜刚  肖志广
作者单位:北京大学微电子学研究所,北京,100871;北京大学微电子学研究所,北京,100871;北京大学微电子学研究所,北京,100871
摘    要:鉴于PC机广泛普及和使用方便,在PC机上建立起实验设计与模拟相结合用于IC优化设计的TCAD工具。利用已有的工艺模拟软件SUPREM、器件模拟软件MINIMOS及电路模拟软件PSPICE,完成了响应表面拟合、SPICE模型参数提取及数据转换等程序,形成一个可以进行工艺、器件及电路分析和优化设计的TCAD工具,并用于研究实验设计方法在IC优化设计中的应用。

关 键 词:实验设计  响应表面  优化设计  TCAD工具
收稿时间:2001-09-14

A TCAD Tool of DOE Combining with Simulation for IC Optimization Design
GAN Xuewen DU Gang XIAO Zhiguang. A TCAD Tool of DOE Combining with Simulation for IC Optimization Design[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis, 2002, 38(5): 713-718. DOI: 10.3321/j.issn:0479-8023.2002.05.019
Authors:GAN Xuewen DU Gang XIAO Zhiguang
Affiliation:Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, 100871
Abstract:A TCAD tool of DOE(Design of Experiment) combining with simulations for IC optimization design was implemented on a PC,some simulation software such as SUPREM,MINIMOS and PSPICE were utilized.The programs for fitting response surface,extracting SPICE model parameters and converting data files were completed.The application of DOE on IC optimization design was studied using the TCAD tool.
Keywords:DOE  response surface  optimization design  TCAD tool
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《北京大学学报(自然科学版)》浏览原始摘要信息
点击此处可从《北京大学学报(自然科学版)》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号