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多层电路板的深层充电研究
引用本文:王建昭,陈鸿飞,于向前,邹鸿,施伟红.多层电路板的深层充电研究[J].中国科学:信息科学,2015(3):330-337.
作者姓名:王建昭  陈鸿飞  于向前  邹鸿  施伟红
作者单位:北京大学空间物理与应用技术研究所
基金项目:国家自然科学基金(批准号:41374181);国家重大科学仪器专项(批准号:2012YQ03014207)资助项目
摘    要:以欧空局的FLUMIC2模型为输入电子能谱,基于Monte Carlo方法和辐射诱导电导率模型进行多层电路板充电分析,可模拟地球同步轨道上有2 mm铝层屏蔽时的多层FR4印刷电路板的深层充电过程,得到电场和电势随介质深度的变化.研究发现与双面接地电路板相比较,电路板四层铺铜接地内部最大充电电场减少54%,有效地减小介质内部电场,降低深层放电风险.充电时间常数和电介质的物理特性有关而与电路板分层情况无关.分析各接地层的电流,两层电路板为90~150 p A m?2,四层电路板为10~100 p A m?2.

关 键 词:深层充电  辐射诱导电导率  Geant4  Monte  Carlo  方法  地球同步轨道
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