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| 纳米CMOS工艺下集成电路可制造性设计技术 | |
| 引用本文： | 程玉华.纳米CMOS工艺下集成电路可制造性设计技术[J].中国科学(E辑),2008(6):968-978. |
| 作者姓名： | 程玉华 |
| 作者单位： | [1]北京大学上海微电子研究院,上海201203 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（批准号：60736030） |
| 摘 要： | 简要讨论纳米CMOS工艺下集成电路的可制造性设计（DFM）技术.首先讨论纳米CMOS中与制造性有关的工艺和器件问题,然后探讨DFM需要的工艺和器件建模工作.最后对包括有可制造性设计技术的集成电路设计流程和能较好地在大规模集成电路设计环境中开发设计/制造交互界面的有关EDA做简单介绍. |
| 关 键 词： | 可制造性设计(DFM) 基于成品率的设计 纳米CMOS集成电路设计集成电路设计方法学 CMOS设计技术平台 |
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