NiFe/非磁金属隔离层/FeMn薄膜中的微结构及其对交换耦合的影响 |
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引用本文: | 李明华,于广华,朱逢吾,何珂,赖武彦.NiFe/非磁金属隔离层/FeMn薄膜中的微结构及其对交换耦合的影响[J].中国科学(E辑),2003,33(11):961-968. |
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作者姓名: | 李明华 于广华 朱逢吾 何珂 赖武彦 |
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作者单位: | 1. 北京科技大学材料物理系,北京,100083 2. 中国科学院物理研究所,北京,100080 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(批准号:50271007),北京市自然科学基金(批准号:2012011)资助项目 |
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摘 要: | 采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/非磁金属隔离层/FeMn多层膜, 研究了交换耦合场Hex相对于非磁金属隔离层厚度的变化关系. 实验结果表明: 随非磁金属隔离层厚度的增加, 以Bi和Ag为隔离层的Hex薄膜急剧下降, 以Cu为隔离层的薄膜的Hex下降较缓慢. 对Cu而言, 它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同且晶格常数相近, Cu层以及FeMn层都可以相继外延生长, FeMn层的(111)织构不会受到破坏, 因此, Hex随Cu沉积厚度增加缓慢下降. 对Ag而言, 虽然它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同, 但晶格常数相差较大, Ag层以及FeMn层都不可能外延生长, FeMn层的织构将会受到破坏, Hex随Ag沉积厚度增加迅速下降. 对Bi而言, 不仅它的晶体结构与NiFe层的不同, 而且晶格常数相差也较大, 同样, Bi层以及FeMn层也不可能外延生长, FeMn层的织构也会受到破坏, 因此, Hex也随Bi沉积厚度增加迅速下降. 但是, X射线光电子能谱研究表明: 极少量的表面活化原子Bi沉积在NiFe/FeMn界面时, 会上浮到FeMn层表面, 因而Hex下降很少.
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关 键 词: | 非磁隔离层 交换耦合场Hex 晶格匹配 X射线衍射(XRD) NiFe/FeMn |
收稿时间: | 2003-03-12 |
修稿时间: | 2003-06-27 |
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