C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究 |
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引用本文: | 李抒智,杨卫桥,周圣明,徐军.C面蓝宝石上单一取向γ-LiAlO2层的生长研究[J].中国科学(E辑),2005,35(3):249-253. |
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作者姓名: | 李抒智 杨卫桥 周圣明 徐军 |
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作者单位: | 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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摘 要: | 用气相传输平衡技术(VTE)在(0001)蓝宝石衬底上制备了单相的γ-LiAlO2薄层. X射线衍射表明, 在适当的温度(1050~1100℃)条件下, 此γ-LiAlO2薄层为高度100]取向, 并通过扫描电子显微镜和透射光谱, 分析了影响薄膜质量的因素. 这一实验结果意味着有望通过VTE技术制备用于GaN基器件外延生长的γ-LiAlO2(100)//Al2O3(0001)复合衬底.
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关 键 词: | 复合衬底 气相传输平衡技术 γ-LiAlO2 |
收稿时间: | 2004-05-18 |
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