首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

研究In0.82Ga0.18As/InP的临界厚度
引用本文:张铁民,缪国庆,孙秋,孙书娟,傅军,符运良.研究In0.82Ga0.18As/InP的临界厚度[J].海南师范大学学报(自然科学版),2011,24(1).
作者姓名:张铁民  缪国庆  孙秋  孙书娟  傅军  符运良
作者单位:1. 海南师范大学物理与电子工程学院,海南海口,571158
2. 中国科学院激发态物理重点实验室,吉林长春,130021
3. 海南师范大学图书馆,海南,海口57l158
基金项目:海南省教育厅高等学校科研基金项目,国家自然科学基金重点项目,海南省自然科学基金项目,海南师范大学学科建设基金项目
摘    要:根据Matthew-Blakeslee和People-Bean的临界厚度理论,利用牛顿迭代公式,使用计算机模拟出高In组分InxGat-xAs临界厚度的数值解,得出理论上的In0.82Ga0.18As临界厚度.使用低压金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)技术,在InP(100)衬底上分别生长低于临界厚度、等于临界厚度和高于临界厚度的In0.82Ga0.18As低温层,然后在生长条件一致情况下生长In0.82Ga0.18As高温层,分析临界厚度对In0.82Ga0.18As高温层的影响.

关 键 词:In0.82Ga0.18As  金属有机化学气相淀积  临界厚度

Study of the Critical Thicknees of In0.82Ga0.18As/InP
ZHANG Tiemin,MIAO Guoqing,SUN Qiu,SUN Shujuan,FU Jun,FU Yunliang.Study of the Critical Thicknees of In0.82Ga0.18As/InP[J].Journal of Hainan Normal University:Natural Science,2011,24(1).
Authors:ZHANG Tiemin  MIAO Guoqing  SUN Qiu  SUN Shujuan  FU Jun  FU Yunliang
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号