| 氩离子注入PET表面沉积Cu膜的界面特性 |
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| 引用本文： | 滕旭,张济忠,冉杰.氩离子注入PET表面沉积Cu膜的界面特性[J].黑龙江大学自然科学学报,2010,27(6). |
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| 作者姓名： | 滕旭 张济忠 冉杰 |
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| 基金项目： | 清华大学实验室开放基金资助项目 |
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| 摘 要： | 为了研究Ar离子注入对薄膜沉积的影响,使用2 keV的氩离子对PET进行表面注入,注入剂量为5×1011ions.cm-2,然后用离子溅射镀膜法,在PET表面均匀地沉积一层Cu膜,用台阶仪、俄歇探针、原子力显微镜等对其进行测试分析。结果表明,该合金膜的厚度为490 nm,膜表面平整,无缺陷。对该合金膜进行纳米划痕测试,得到临界载荷为8.5 mN。实验结果证明,Ar离子注入对薄膜性能有提高。
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| 关 键 词： | PET 氩离子 溅射镀膜 Cu膜 结合力 |
Adhesion between Cu film and PET substrate implanted with Ar ions |
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| TENG Xu,ZHANG Ji-zhong,RAN Jie.Adhesion between Cu film and PET substrate implanted with Ar ions[J].Journal of Natural Science of Heilongjiang University,2010,27(6). |
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| Authors: | TENG Xu ZHANG Ji-zhong RAN Jie |
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