氮气流量对磁过滤沉积AlN
纳米薄膜显微组织与性能的影响 |
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引用本文: | 庞盼,陈琳,谢文玲,罗军,廖斌,欧伊翔.氮气流量对磁过滤沉积AlN
纳米薄膜显微组织与性能的影响[J].湘潭大学自然科学学报,2020(4):20-28. |
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作者姓名: | 庞盼 陈琳 谢文玲 罗军 廖斌 欧伊翔 |
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摘 要: | AlN薄膜具有优良的绝缘性能和力学性能,被广泛应用于微电子领域的绝缘耐压涂层采用离子注入结合磁过滤等离子体沉积技术,氮气流量为30~90 sccm,在304不锈钢和环氧玻璃纤维板上制备硬质AlN纳米涂层采用XPS、AFM、XRD和SEM分析AlN纳米涂层的成分、表面形貌及结构采用纳米硬度计、介电谱仪以及兆欧级电阻表研究涂层的力学和电学性能结果表明,制备的AlN纳米薄膜结构致密、表面光滑随氮气流量的增加,薄膜由强 (100) 择优取向转变为 (100)、(002) 和 (102) 任意取向生长AlN纳米薄膜的纳米硬度、H/E*、H3/E*2先增加后减小,而电导率逐渐下降,阻抗逐渐增加氮气流量为60 sccm时,AlN纳米涂层具有优良的力学性能和电学性能
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关 键 词: | 氮化铝薄膜 离子注入 磁过滤沉积 环氧玻璃纤维板 |
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