| CVD金刚石薄膜的界面能量分析 |
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| 引用本文： | 唐璧玉,靳九成,陈宗璋.CVD金刚石薄膜的界面能量分析[J].湘潭大学自然科学学报,1999,21(4):44-47. |
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| 作者姓名： | 唐璧玉 靳九成 陈宗璋 |
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| 作者单位： | 1. 湘潭大学物理系,湘潭,411105
2. 湖南大学,长沙 |
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| 摘 要： | 分析了CVD金刚石薄膜的界面能量情况,并由此研究了金刚石成核几率、晶核取向、附着强度与基底材料结构和性能的关系
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| 关 键 词： | CVD金刚石 成核几率 晶核取向 附着强度 基底材料 |
| 修稿时间： | 1998年9月20日 |
Interfaial Energy Analysis of CVD Diamond Films |
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| Tang Biyu,Jing Jiucheng,Chen Zhongzhang.Interfaial Energy Analysis of CVD Diamond Films[J].Natural Science Journal of Xiangtan University,1999,21(4):44-47. |
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| Authors: | Tang Biyu Jing Jiucheng Chen Zhongzhang |
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| Abstract: | Interfacial energy during CVD diamond films was analysed. The relationship of diamond nucleation probability, nucleus orientations and film adhesion with structure ad properties was investigated. |
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| Keywords: | CVD diamond nucleation probability nucleus orientation adhesion strength substrate materials |
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