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| Effect of Post-Annealing Temperature on Optical and Electrical Properties of Li：ZnO Thin Films | |
| 作者单位： | 东北大学机械工程与自动化学院,辽宁沈阳,110819 |
| 基金项目： | 教育部高等学校博士学科点专项科研基金资助项目，中央高校基本科研业务费专项资金资助项目 |
| 摘 要： | 采用溶胶凝胶法旋涂制备了摩尔分数为3%的Li掺杂ZnO薄膜,在450~650℃下退火后测试其微结构、表面形貌和光电特性.结果表明薄膜为六方纤锌矿多晶结构且n型导电,退火温度的升高改善了结晶度、表面形貌、透过率和导电性.退火温度超过550℃后电阻率增大,样品由肖特基导电转变为欧姆导电;伏安特性模拟结果表明,替位Li逐渐增多、薄膜功函数增大,有利于制备p型薄膜.退火温度达600℃后,由于薄膜再蒸发等使光电特性变差.550℃是最佳退火温度,适于制备高质量的透明导电薄膜,此时薄膜透过率达95%,薄膜电阻率为2.49×103Ω.cm. |
| 关 键 词： | 溶胶凝胶法 ZnO薄膜 Li掺杂 退火温度 光电特性 |
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