| 氮气分压比对硼碳氮薄膜的组分及光学带隙的影响 |
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| 引用本文： | 王玉新,郑亚茹,王晓玉,王晓雪,董李娜,宋哲.氮气分压比对硼碳氮薄膜的组分及光学带隙的影响[J].辽宁师范大学学报(自然科学版),2011,34(1). |
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| 作者姓名： | 王玉新 郑亚茹 王晓玉 王晓雪 董李娜 宋哲 |
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| 作者单位： | 辽宁师范大学,物理与电子技术学院,辽宁,大连,116029 |
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| 基金项目： | 大连市科学技术基金项目 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法以不同的氮气分压比(1/10～2/3)制备出一组硼碳氮薄膜.傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)测量发现样品的组成原子之间均实现了原子级化合.XPS测量结果表明,所有样品中的B、N原子比近似为1:1,其化学配比为BCx N(0.16＜x＜1.46).紫外/可见/近红外分光光度计用于测量样品的吸收光谱.由吸收谱线在低能区域(2.0～3.0 eV)的光吸收,利用关系作图法求出光学带隙Eopt范围为0.17～0.83 eV.氮气分压比对薄膜的组分和光学带隙有很大影响,其通过改变薄膜组分而影响光学带隙,并且碳原子数小的样品具有较宽的光学带隙.以氮气分压比为1/3条件下制备的样品中碳原子数最小,它的光学带隙最宽为0.83 eV.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 硼碳氮薄膜 氮气分压比 光学带隙 |
Influence of NZ partial pressure on composition and optical band gapof boron carbon nitride thin films |
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| WANG Yu-xin,ZHENG Ya-ru,WANG Xiao-yu,WANG Xiao-xue,DONG Li-na,SONG Zhe.Influence of NZ partial pressure on composition and optical band gapof boron carbon nitride thin films[J].Journal of Liaoning Normal University(Natural Science Edition),2011,34(1). |
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| Authors: | WANG Yu-xin ZHENG Ya-ru WANG Xiao-yu WANG Xiao-xue DONG Li-na SONG Zhe |
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| Institution: | WANG Yu-xin,ZHENG Ya-ru,WANG Xiao-yu,WANG Xiao-xue,DONG Li-na,SONG Zhe(School of Physics and Electronic Technology,Liaoning Normal University,Dalian 116029,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering boron carbon nitride thin films N2 partial pressure optical band gap |
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