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| 提高真空镀膜机在物理实验中的利用率 | |
| 引用本文： | 王引娣,吴银花.提高真空镀膜机在物理实验中的利用率[J].西北师范大学学报,1991,27(2):67-70. |
| 作者姓名： | 王引娣 吴银花 |
| 作者单位： | 西北师范大学物理系，西北师范大学物理系 |
| 摘 要： | 由于本系实验室的真空镀膜机无法控制镀膜厚度,因而大大缩小了真空镀膜机在物理实验中的应用范围.为了解决有关的物理实验对膜厚的需求问题,笔者设计了本实验,研究了膜厚与蒸镀时间、反射系数以及分束比的关系,提高了真空镀膜机的利用率,为教学和科研提供了方便. |
| 关 键 词： | 真空镀膜机 物理实验 膜厚 镀膜机 |
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