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含纳米硅氧化硅薄膜的多峰光致发光研究
引用本文:陈全海,马书懿.含纳米硅氧化硅薄膜的多峰光致发光研究[J].西北师范大学学报,2006,42(6):40-43.
作者姓名:陈全海  马书懿
作者单位:西北师范大学物理与电子工程学院 甘肃兰州730070
基金项目:教育部科学技术研究重点项目;甘肃省教育厅科研项目;甘肃省重点实验室基金
摘    要:采用γ射线辐照含纳米硅的氧化硅薄膜,测量了其辐照前后的光致发光谱.用Gauss函数对各发光谱进行了拟合,结果表明各光谱都是三峰结构.γ辐照后,除原有的2个位于800 nm(1.55 eV)和710 nm(1.75 eV)的发光峰峰位几乎未变之外,位于640 nm(1.94 eV)的肩峰被一个很强的580 nm(2.14 eV)的新峰遮盖.根据实验现象与光谱分析,可以认为含纳米硅的氧化硅薄膜的光发射主要来自电子-空穴对在SiO2层发光中心上的辐射复合.

关 键 词:γ射线辐照  光致发光  发光中心  高斯峰
文章编号:1001-988X(2006)06-0040-04
收稿时间:2006-07-26
修稿时间:2006-09-15

Study on multi-ply photoluminescence of nano-Si-SiO2 thin films
CHEN Quan-hai,MA Shu-yi.Study on multi-ply photoluminescence of nano-Si-SiO2 thin films[J].Journal of Northwest Normal University Natural Science (Bimonthly),2006,42(6):40-43.
Authors:CHEN Quan-hai  MA Shu-yi
Institution:College of Physics and Electronic Engineering, Northwest Normal University, Lanzhou 730070, Gansu, China
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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