溅射功率对直流磁控溅射TiO_2薄膜光学性能的影响 |
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引用本文: | 史新伟,马群超,李杏瑞,姚宁,王晓.溅射功率对直流磁控溅射TiO_2薄膜光学性能的影响[J].河南科技大学学报(自然科学版),2018(6). |
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作者姓名: | 史新伟 马群超 李杏瑞 姚宁 王晓 |
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作者单位: | 郑州大学物理工程学院;郑州大学材料科学与工程学院 |
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摘 要: | 通过改变溅射功率,使用直流磁控溅射设备,在玻璃衬底上制备了系列Ti O2薄膜。分别用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和椭偏光谱仪测试了Ti O2薄膜的形貌、结构及厚度。使用紫外-可见分光光度计测试了Ti O2薄膜的光学性能。使用Ti O2薄膜降解罗丹明B溶液测试了其光催化活性。研究结果表明:溅射功率增大,薄膜的透射谱及吸收谱在紫外出现明显的"红移"现象,光学带隙从3.51 e V减小到3.40 e V。适当提高溅射功率有利于提高Ti O2薄膜的光催化活性,当溅射功率为213 W时,薄膜的光催化性能最好。
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