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应用DLTS技术研究磷处理对Si_SiO_2界面态的影响
引用本文:黄波 ,袁青.应用DLTS技术研究磷处理对Si_SiO_2界面态的影响[J].华南师范大学学报(自然科学版),1984,0(2):1.
作者姓名:黄波  袁青
摘    要:本文应用DLTS(深能级瞬态谱)技术研究磷处理对Si—SiO_2界面态密度和停荻截面的影响.给出了(100)晶向n型硅MOS结构的实验结果.

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