聚硅烷在XeCl准分子激光作用下光降解及亚微米光刻的研究 |
| |
引用本文: | 傅鹤鉴,谢茂浓.聚硅烷在XeCl准分子激光作用下光降解及亚微米光刻的研究[J].四川大学学报(自然科学版),1997,34(4):489-492. |
| |
作者姓名: | 傅鹤鉴 谢茂浓 |
| |
作者单位: | [1]四川大学化学系 [2]四川大学物理系 |
| |
摘 要: | 采用308nmXeCl准分子激光研究了聚硅烷溶液和聚硅烷薄膜的光降解反应,利用玻璃片为基底,旋转涂布,分别以酚醛树脂和聚氨酯为平坦层,以聚硅烷为成像层和阻挡层,构成双层工艺,进行接近式曝光,用混合溶剂显影,并通过O2-RIE处理,最终得到了亚微米的光刻图形。
|
关 键 词: | 聚硅烷 光降解 光刻 亚微米光刻 准分子激光 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|