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| 射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 | |
| 引用本文： | 颜璞,黎兵,李愿杰,黄杨,王洪浩,孟奕峰,刘才,冯良桓.射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究[J].四川大学学报(自然科学版),2009,46(1):147-151. |
| 作者姓名： | 颜璞 黎兵 李愿杰 黄杨 王洪浩 孟奕峰 刘才 冯良桓 |
| 作者单位： | 四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院;四川大学材料科学与工程学院 |
| 摘 要： | 为了制备高效率的CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池，本文采用射频磁控溅射技术在不同温度玻璃衬底上制备了CdTe多晶薄膜. 利用X射线衍射仪其微结构；用紫外分光光度计测量薄膜的透过谱，计算出了能隙Eg；利用原子力显微镜表征其微观形貌. 结果显示在常温时沉积的薄膜晶面取向性好，为立方闪锌矿型结构，有较低的透过率. 以上结果表明，用射频磁控溅射技术更适于制备CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池中的CdTe薄膜. |
| 关 键 词： | CdTe 薄膜 射频（RF）磁控溅射 |
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