| 电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 陶勇,廖志君,王自磊,范强,伍登学,卢铁城.电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究[J].四川大学学报(自然科学版),2011,48(2):395-399. |
| |
| 作者姓名： | 陶勇 廖志君 王自磊 范强 伍登学 卢铁城 |
| |
| 作者单位： | 四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室,成都,610064 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金基础科学人才培养基金(J0830308) |
| |
| 摘 要： | 自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置，用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层. 采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层. 研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响. 采用X射线照相技术测试涂层的厚度；XPS测试涂层表面成分；AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度. 结果表明：涂层主要成分为B4C，表面较为光滑、均匀；当筛网振动频率为0.25 Hz，且电子束蒸发工艺参数定为：真空度P小于3×10-3 Pa，高压U 等于6 kV，束流I 在 1
|
| 关 键 词： | 电子束蒸发 涂层 沉积时间 |
Process of boron carbide micro-shell coatings deposited by electron beam evaporation |
| |
| TAO Yong,LIAO Zhi-Jun,WU Deng-Xue,FAN Qiang,WANG Zi-Lei and LU Tie-Cheng.Process of boron carbide micro-shell coatings deposited by electron beam evaporation[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2011,48(2):395-399. |
| |
| Authors: | TAO Yong LIAO Zhi-Jun WU Deng-Xue FAN Qiang WANG Zi-Lei and LU Tie-Cheng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | electron beam evaporation coatings deposition time |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《四川大学学报(自然科学版)》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《四川大学学报(自然科学版)》下载免费的PDF全文 |
