| 氧分压对电子束蒸发ZrO2薄膜微结构的影响 |
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| 引用本文： | 陈松林,赵北君,朱世富,马平,胡建平,胡江川.氧分压对电子束蒸发ZrO2薄膜微结构的影响[J].四川大学学报(自然科学版),2004,41(4):774-777. |
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| 作者姓名： | 陈松林 赵北君 朱世富 马平 胡建平 胡江川 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学材料科学系,成都,610064
2. 成都精密光学工程研究中心,成都,610041 |
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| 基金项目： | 国家863-804基金 |
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| 摘 要： | 用XRD衍射技术分析了基片转动和充氧条件对ZrO2薄膜组成结构的影响,发现在相同低氧压条件下(P≤1.1×10-2Pa)基片转动能够改变薄膜的组成结构,即薄膜发生从四方相到单斜相的转变;随着氧压进一步升高,ZrO2薄膜将由多晶态逐渐转变为无定形结构.同时发现基片转动能够降低充氧条件对表面粗糙度和晶粒大小的影响.激光阈值损伤测量表明,氧压条件影响着ZrO2薄膜的抗激光损伤能力,且多晶结构的激光损伤阈值高于无定形结构.
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| 关 键 词： | 电子束蒸发 ZrO2薄膜 氧分压 XRD 表面粗糙度 激光损伤 |
| 文章编号： | 0490-6756(2004)04-0774-04 |
Influence of O2 Partial Pressure on the Micro-structure of ZrO2 Thin Films by Electron Beam Evaporation |
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| CHEN Song-lin ,ZHAO Bei-jun ,ZHU Shi-fu ,MA Ping ,HU Jian-ping ,HU Jiang-chuan.Influence of O2 Partial Pressure on the Micro-structure of ZrO2 Thin Films by Electron Beam Evaporation[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2004,41(4):774-777. |
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| Authors: | CHEN Song-lin ZHAO Bei-jun ZHU Shi-fu MA Ping HU Jian-ping HU Jiang-chuan |
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| Institution: | CHEN Song-lin 1,ZHAO Bei-jun 1,ZHU Shi-fu 1,MA Ping 2,HU Jian-ping 2,HU Jiang-chuan 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electron beam evaporation ZrO_2 thin film oxygen partial pressure XRD surface roughness laser damege |
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