Si—(SiO_2)—Al_2O_3结构的电子束辐照效应 |
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引用本文: | 林理彬
,田景文
,谢建华
,唐方元
,熊文树
,林茂清
,陈伯英.Si—(SiO_2)—Al_2O_3结构的电子束辐照效应[J].四川大学学报(自然科学版),1982(4). |
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作者姓名: | 林理彬 田景文 谢建华 唐方元 熊文树 林茂清 陈伯英 |
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摘 要: | 一、引言在半导体技术中,单层Al_2O_3膜及Al_2O_3—SiO_2结构的双层复合膜早已引起了人们的重视.MAS及MAOS器件中用Al_2O_3及Al_2O_3—SiO_2作为绝缘栅,具有较高的稳定性和可靠性。Al_2O_3膜对钠离子有阻挡作用,又有一定的抗腐蚀能力,这些特点使它用作钝化膜也越来越普遍,特别是因为Al_2O_3的抗辐射性能良好,研究Al_2O_3—Si及Al_2O_3—SiO_2—Si结构的辐射效应,直接关系着电子器件在原子能技术中的应用,随着原子能技术的发展及广泛应用,这类课题日益为人们所关切。
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