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Si—(SiO_2)—Al_2O_3结构的电子束辐照效应
引用本文:林理彬 ,田景文 ,谢建华 ,唐方元 ,熊文树 ,林茂清 ,陈伯英.Si—(SiO_2)—Al_2O_3结构的电子束辐照效应[J].四川大学学报(自然科学版),1982(4).
作者姓名:林理彬  田景文  谢建华  唐方元  熊文树  林茂清  陈伯英
摘    要:一、引言在半导体技术中,单层Al_2O_3膜及Al_2O_3—SiO_2结构的双层复合膜早已引起了人们的重视.MAS及MAOS器件中用Al_2O_3及Al_2O_3—SiO_2作为绝缘栅,具有较高的稳定性和可靠性。Al_2O_3膜对钠离子有阻挡作用,又有一定的抗腐蚀能力,这些特点使它用作钝化膜也越来越普遍,特别是因为Al_2O_3的抗辐射性能良好,研究Al_2O_3—Si及Al_2O_3—SiO_2—Si结构的辐射效应,直接关系着电子器件在原子能技术中的应用,随着原子能技术的发展及广泛应用,这类课题日益为人们所关切。

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