| 聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶 |
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| 引用本文： | 苏志珊,马洪,曾红梅,彭志坚,傅鹤鉴,陈德本.聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶[J].四川大学学报(自然科学版),2002,39(2):299-303. |
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| 作者姓名： | 苏志珊 马洪 曾红梅 彭志坚 傅鹤鉴 陈德本 |
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| 作者单位： | 四川大学化学系,成都610064 |
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| 基金项目： | 国家自科科学基金 (5 98730 15 ) |
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| 摘 要： | 讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层，几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层，在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果。由于聚硅烷与其它树脂相容性不好，作者将含氟聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验，获得最小分辨率为0．5μm的明暗线条等宽图形，对以不同聚硅烷相互作为添加剂，将其配方性能优化进行了有益的尝试。对多种影响图形转移质量 的因素进行了一些定性的讨论。
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| 关 键 词： | 聚硅烷 紫外亚微米 光刻胶 O2－RIE处理 微细加工 激光光刻 抗蚀层 添加剂 亚微米图形 |
| 文章编号： | 0490-6756(2002)02-0299-05 |
The Study on the Photolithographic Effect of Using Polysilane As Photoresist for Uv Submicron Photolithography |
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| SU Zhi-shan,MA hong,ZENG Hong-mei,PENG Zhi-jian,FU He-jian,CHEN De-ben.The Study on the Photolithographic Effect of Using Polysilane As Photoresist for Uv Submicron Photolithography[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2002,39(2):299-303. |
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| Authors: | SU Zhi-shan MA hong ZENG Hong-mei PENG Zhi-jian FU He-jian CHEN De-ben |
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| Keywords: | polysilane photoresist O 2-RIE |
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