| 减压法制备TiO2薄膜及影响因素的研究 |
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| 引用本文： | 武正簧,李文漪,赵君芙.减压法制备TiO2薄膜及影响因素的研究[J].太原理工大学学报,1999,30(5):505-507. |
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| 作者姓名： | 武正簧 李文漪 赵君芙 |
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| 作者单位： | 太原理工大学化学工程与技术学院 |
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| 摘 要： | 主要研究了用化学气相沉积法在减压状态下制备ＴｉＯ２薄膜，不温度和压力改变时，会影响薄膜的沉积率，晶型及表面形貌。并且根据阿龙尼乌斯公式算是在玻璃片镀膜基表反应的平均活化能为５７．０８６ｋＪ／ｍｏｌ。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 二氧化钛 薄膜 减压法 制备 |
| 文章编号： | 1007-9432(1999)05-0505-03 |
Study on the Preparation and Characteristics of LPCVD TiO2 Thin Film |
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| Wu Zhenghuang,Li Wenyi,Zhao Junfu.Study on the Preparation and Characteristics of LPCVD TiO2 Thin Film[J].Journal of Taiyuan University of Technology,1999,30(5):505-507. |
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| Authors: | Wu Zhenghuang Li Wenyi Zhao Junfu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD TiO 2 thin film |
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