| CVD法TiO2薄膜的制备条件及光学性质的研究 |
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| 引用本文： | 郭清萍.CVD法TiO2薄膜的制备条件及光学性质的研究[J].太原理工大学学报,1998,29(3):240-243. |
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| 作者姓名： | 郭清萍 |
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| 作者单位： | 太原理工大学材料工程学院材料系 |
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| 基金项目： | 山西省留学归国人员基金 |
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| 摘 要： | 以四异丙醇钛为钛源物质，采用常压化学气相沉积法制备了ＴｉＯ２膜，并对其光学性质进行了研究。实验结果表明，：沉积条件是影响ＴｉＯ２膜的沉积率和光学性质的重要因素。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 二氧化钛薄膜 光学性质 |
Study on Deposition Condition and Optical Properties of TiO 2 Films Deposited by Chemical Vapour Deposition |
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| Guo,Qingping.Study on Deposition Condition and Optical Properties of TiO 2 Films Deposited by Chemical Vapour Deposition[J].Journal of Taiyuan University of Technology,1998,29(3):240-243. |
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| Authors: | Guo Qingping |
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| Institution: | Guo Qingping (Inst. of Material Engg.) Wu Zhenghuang Zhao Junfu (Dept. of Applied Chem.) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | chemical vapour deposition TiO 2 thin film deposition rate refractive index extinction coefficient |
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