| 掺氮可见光响应TiO2-xNx光催化薄膜的制备及性能初探 |
| |
| 引用本文： | 阮广福,叶勤.掺氮可见光响应TiO2-xNx光催化薄膜的制备及性能初探[J].暨南大学学报,2007,28(1):88-91. |
| |
| 作者姓名： | 阮广福 叶勤 |
| |
| 作者单位： | 暨南大学物理系,广东,广州,516032 |
| |
| 基金项目： | 广东省自然科学基金
,
广东省科技攻关项目 |
| |
| 摘 要： | 采用反应磁控溅射法在玻璃基片上制备N掺杂TiO2-xNx薄膜和纯TiO2薄膜,并且对两种薄膜样品分别进行了300、400和500℃的退火处理.采用X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光光度计(UV-Vis)对经过退火处理的样品进行了表征.结果表明:成功制备了N掺杂TiO2-xNx薄膜,部分N进入了TiO2薄膜晶格,并且以N-O键形式存在;N掺杂TiO2-xNx薄膜和纯TiO2薄膜相对比,晶型和表面形貌没有什么太大的区别,但通过紫外-可见光吸收谱图可以发现经过400℃退火处理的N掺杂TiO2-xNx薄膜吸收带边从纯TiO2薄膜的400 nm红移到455 nm.
|
| 关 键 词： | TiO2薄膜 氮掺杂 红移 掺氮 可见光响应 光催化 膜的制备 性能 visible light thin films photocatalyst study properties 红移 吸收带边 发现 谱图 可见光吸收 表面形貌 晶型 相对比 存在 晶格 |
| 文章编号： | 1000-9965(2007)01-0088-04 |
| 修稿时间： | 12 5 2006 12:00AM |
Preparation and properties study of N-doped TiO2-xNx photocatalyst thin films responding to visible light |
| |
| RUAN Guang-fu,YE Qin.Preparation and properties study of N-doped TiO2-xNx photocatalyst thin films responding to visible light[J].Journal of Jinan University(Natural Science & Medicine Edition),2007,28(1):88-91. |
| |
| Authors: | RUAN Guang-fu YE Qin |
| |
| Institution: | Department of Physics, Jinan University, Guangzhou 516032, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | TiO2 thin films N-doped red drift |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
