| 射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO2薄膜性能比较 |
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| 引用本文： | 吴奎,叶勤.射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO2薄膜性能比较[J].暨南大学学报,2006,27(3):393-397. |
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| 作者姓名： | 吴奎 叶勤 |
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| 作者单位： | 暨南大学物理系,广东,广州,510632 |
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| 基金项目： | 广东省博士启动基金;广东省广州市科技局科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法和电弧离子镀法制备了纳米TiO2薄膜,并利用XRD、UV-VIS、AFM及通过亲水性和光催化实验对两种方法制备的TiO2薄膜进行了对比表征.结果表明,磁控溅射法的薄膜生长速率只有电弧离子镀法的1/30;前者仅需较低的退火温度就能形成完善的锐钛矿结构;虽然两者有相近的紫外吸收边,但是前者有较大的紫外吸收;磁控溅射法制备的TiO2薄膜表面呈现针状晶结构和具有较大的比表面积;在暗室中保存5 h后,磁控溅射法制备的TiO2膜水的接触角恢复到1°,而后者达到20°;对于光催化降解苯酚,前者有较大的降解率.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 电弧离子镀 TiO2薄膜 亲水性 光催化 |
| 文章编号： | 1000-9965(2005)06-0393-05 |
| 修稿时间： | 2005年10月21 |
Characteristic comparison of TiO2 thin film prepared by R.F. magnetron sputtering and arc ion plating |
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| WU Kui,YE Qin.Characteristic comparison of TiO2 thin film prepared by R.F. magnetron sputtering and arc ion plating[J].Journal of Jinan University(Natural Science & Medicine Edition),2006,27(3):393-397. |
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| Authors: | WU Kui YE Qin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | R F magnetron sputtering arc ion plating TiO_2 thin film photodegradation hydrophilicity |
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