| RF磁控溅射制备TiO2薄膜及其性能讨论 |
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| 引用本文： | 赵丽特,叶勤,刘应亮.RF磁控溅射制备TiO2薄膜及其性能讨论[J].暨南大学学报,2004,25(3):285-288. |
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| 作者姓名： | 赵丽特 叶勤 刘应亮 |
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| 作者单位： | 1. 暨南大学,物理系,广东,广州,510632
2. 暨南大学,化学系,广东,广州,510632 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(20171018) |
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| 摘 要： | 用RF磁控溅射法制备了TiO2薄膜，考察了工作压强、靶与基片距离对薄膜沉积速率、均匀性的影响以及靶材料、基片及退火温度对薄膜晶体结构的影响．获得的，TiO2薄膜在很宽的温度范围(400～900℃)内保持锐钛矿型晶体结构．
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 磁控溅射 晶体结构 |
| 文章编号： | 1000-9965(2004)03-0285-04 |
| 修稿时间： | 2004年3月1日 |
Discussion on preparation and characteristics of titanium dioxide thin films by RF magnetron sputtering |
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| ZHAO Li-te,YE Qin,LIU Ying-liang.Discussion on preparation and characteristics of titanium dioxide thin films by RF magnetron sputtering[J].Journal of Jinan University(Natural Science & Medicine Edition),2004,25(3):285-288. |
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| Authors: | ZHAO Li-te YE Qin LIU Ying-liang |
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| Institution: | ZHAO Li-te~1,YE Qin~1,LIU Ying-liang~2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | titania (TiO_2) thin films RF sputtering crystal structure |
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