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| 铁氰酸钴膜修饰微电极的研究及其应用 | |
| 引用本文： | 郝必正,任乃林.铁氰酸钴膜修饰微电极的研究及其应用[J].延安大学学报(自然科学版),1994,13(4):33-36. |
| 作者姓名： | 郝必正 任乃林 |
| 作者单位： | 延安医学院 |
| 基金项目： | 陕西省教委自然科学基金 |
| 摘 要： | 用电化学法在玻碳基体上制备出性能稳定的铁氰酸钴膜修饰微电极（ＣＨＣＦ／ＧＣ），该电极可在－１．０Ｖ－１．０Ｖ（ｖｓＳＣＥ）之间进行连续多次的电位扫描。表征了该电极的电化学多种行为，研究了影响ＣＨＣＦ膜电极性能的多种因素和该电极对抗坏血酸（ＡＡ）测定的催化作用。 |
| 关 键 词： | 铁氰酸钴，修饰电极，微电极，伏安法，抗坏血酸 |
An Investigation and Application of How Cobalt Hexacyanoferrate Film Modifies ElectrodeH |
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| ao Bizheng, Ren Nailin, Tuao Honggui,Gao Zhijong, Yang Jinxia, Xue Sheng, Liu Keti.An Investigation and Application of How Cobalt Hexacyanoferrate Film Modifies ElectrodeH[J].Journal of Yan'an University(Natural Science Edition),1994,13(4):33-36. | |
| Authors: | ao Bizheng Ren Nailin Tuao Honggui Gao Zhijong Yang Jinxia Xue Sheng Liu Keti |
| Abstract: | |
| Keywords: | cobalt hexacynoferrate modified electrode micro electrode voltammetry ascorbnic acid |
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