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铜镍在P—Si上的激光辅助电沉积
引用本文:
游阳明,张国庆.铜镍在P—Si上的激光辅助电沉积[J].河北师范学院学报,1995(2):70-74.
作者姓名:
游阳明
张国庆
摘 要:
研究了P-Si上铜镍由其硫酸盐中的电沉积过程。不同的半导体表面预处理条件对沉积电流有非常显著的影响;确定了制备选择性铜镍镀层的实验条件;利用能级图分析了沉积的价带过程和导带过程。
关 键 词:
激光
电沉积
铜
镍
磷-硅
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