| 双层辉光沉积TiN涂层的力学性能研究 |
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| 引用本文： | 陈首部,韦世良,何翔,孙奉娄.双层辉光沉积TiN涂层的力学性能研究[J].中南民族大学学报(自然科学版),2009,28(3):34-37. |
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| 作者姓名： | 陈首部 韦世良 何翔 孙奉娄 |
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| 作者单位： | 中南民族大学,电子信息工程学院,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家民委科研基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金YG8基体表面上沉积TiN涂层,通过外观、宏观性能和显微硬度等分析测试,研究了源极到阴极距离、基体温度、辉光放电气压对TiN涂层性能的影响.结果表明:TiN涂层的致密度、均匀性主要受源极到阴极距离的影响,其结合力主要取决于基体温度,而"边缘效应"则主要与辉光放电气压密切相关.双层辉光沉积TiN涂层的优化工艺参数为源极到阴极距离10～12 mm,基体温度750～850 ℃,气压280～340 Pa,所沉积TiN涂层的最高显微硬度可达2 356 HV0.05.
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| 关 键 词： | 辉光放电 TiN涂层 力学性能 |
Study of Mechanical Properties of TiN Coatings by Double Glow Discharge Plasma Process |
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| Chen Shoubu,Wei Shiliang,He Xiang,Sun Fenglou.Study of Mechanical Properties of TiN Coatings by Double Glow Discharge Plasma Process[J].Journal of South-Central Univ for,2009,28(3):34-37. |
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| Authors: | Chen Shoubu Wei Shiliang He Xiang Sun Fenglou |
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| Abstract: | |
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