首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

真空退火处理对光敏薄膜及聚合物太阳电池性能的影响
作者姓名:顾锦华  钟志有  何翔  孙奉娄
作者单位:1. 中南民族大学,计算与实验中心,武汉,430074
2. 中南民族大学,电子信息工程学院,武汉,430074
基金项目:国家民委科研基金资助项目,中南民族大学自然科学基金资助项目 
摘    要:采用掺锡氧化铟玻璃作为衬底,制备了聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1-4-苯撑乙烯]光敏薄膜及其器件,研究了退火处理对薄膜形貌和光电性能的影响.透射光谱和AFM研究表明,退火处理改善了薄膜的表面形貌、降低了薄膜的光学能隙.另外,通过分析器件伏安特性发现,退火处理有助于提高薄膜的电导率和载流子迁移率.这些实验结果对于提高聚合物太阳电池的能量转换效率、改善器件的光伏性能具有非常重要的意义.

关 键 词:聚合物太阳电池  光敏薄膜  退火处理
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《中南民族大学学报(自然科学版)》浏览原始摘要信息
点击此处可从《中南民族大学学报(自然科学版)》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号