|
|||||
|
|
| 磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的微观结构性质研究(英文) | |
| 作者单位： | ;1.中南民族大学实验教学与实验室管理中心;2.中南民族大学智能无线通信湖北省重点实验室;3.中南民族大学电子信息工程学院 |
| 摘 要： | 采用磁控溅射工艺在玻璃衬底上沉积镓掺杂氧化物透明导电薄膜样品,通过X-射线衍射仪的测试表征及其定量分析研究了薄膜样品的结晶性质和微观结构性能.结果表明,所沉积的样品均为六角纤锌矿型的多晶结构并具有(002)择优取向生长特性,其晶格常数、晶面间距和Zn-O键长等参数与标准值一致.当膜厚为570 nm时,薄膜样品的(002)织构系数和晶体尺寸最大、晶格应变和位错密度最小,具有最好的晶体质量和微观结构性能. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 掺杂氧化锌 薄膜 微观结构 |
Gallium-incorporated zinc oxide films deposited by magnetron sputtering and its microstructural properties |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |