| 磁控溅射法制备ZnO:Ga薄膜的结晶质量及其应力研究 |
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| 引用本文： | 钟志有,兰椿,龙路,陆轴.磁控溅射法制备ZnO:Ga薄膜的结晶质量及其应力研究[J].中南民族大学学报(自然科学版),2015(1):66-72. |
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| 作者姓名： | 钟志有 兰椿 龙路 陆轴 |
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| 作者单位： | 1 中南民族大学电子信息工程学院，武汉430074; 2 中南民族大学智能无线通信湖北省重点实验室，武汉430074 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金资助项目(2011CDB418)；中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(CZW14019) |
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| 摘 要： | 以氧化锌(Zn O)掺杂氧化镓(Ga2O3)的陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了透明导电的掺镓氧化锌(Zn O:Ga)薄膜.通过X射线衍射仪测试研究了衬底温度对薄膜结晶性能及其残余应力的影响.研究结果表明:所有Zn O:Ga薄膜均为六角纤锌矿型的多晶结构并具有(002)方向的择优取向特性,其结晶性能和残余应力与衬底温度密切相关.随着衬底温度的升高,薄膜的(002)择优取向程度和晶粒尺寸呈现出先增大后减小的变化趋势,而薄膜的残余压应力则单调减小.当衬底温度为400℃时,Zn O:Ga薄膜具有最大的晶粒尺寸(75.1 nm)、最大的织构系数TC(002)(2.995)、较小的压应力(-0.185 GPa)和最好的结晶性能.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 氧化锌薄膜 掺杂 结晶质量 |
The Crystal Quality and Residual Stress of ZnO: Ga ThinFilms Prepared by Magnetron Sputtering Method |
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| Zhong Zhiyou;Lan Chun;Long Lu;Lu Zhou.The Crystal Quality and Residual Stress of ZnO: Ga ThinFilms Prepared by Magnetron Sputtering Method[J].Journal of South-Central Univ for,2015(1):66-72. |
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| Authors: | Zhong Zhiyou;Lan Chun;Long Lu;Lu Zhou |
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| Institution: | Zhong Zhiyou;Lan Chun;Long Lu;Lu Zhou;College of Electronic Information Engineering,South-Central University for Nationalities;Hubei Key Laboratory of Intelligent Wireless Communications,South-Central University for Nationalities; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering zinc oxide thin films doping crystal quality |
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