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热处理对Y2O3:Eu荧光薄膜结晶性能的影响
引用本文:张晓松,李岚,邹开顺,陶怡.热处理对Y2O3:Eu荧光薄膜结晶性能的影响[J].天津理工大学学报,2004,20(1):20-23.
作者姓名:张晓松  李岚  邹开顺  陶怡
作者单位:1. 天津理工学院,材料物理研究所,天津,300191
2. 天津理工学院,材料物理研究所,天津,300191;河北工业大学,信息学院,天津,300130
基金项目:天津市自然科学基金资助项目(013615211);天津市教委资金资助项目(01-20114);天津市"材料物理与化学"重点学科资助项目
摘    要:运用热处理方法对电子束蒸发制备的Y2O3:Eu荧光薄膜进行不同条件下的退火处理.用X射线衍射等手段表征Y2O3:Eu荧光薄膜的成分、结构、表面形貌.实验表明随着温度的升高,薄膜的结晶状况得到改善,提高了薄膜的结晶性能.

关 键 词:热处理  Y2O3:Eu荧光薄膜  结晶性能  退火  FED
文章编号:1004-2261(2004)01-0020-04
修稿时间:2003年9月24日

Crystal property of Y2O3:Eu thin film improved by post-deposition heat treatment
ZHANG Xiao-song,LI Lan.Crystal property of Y2O3:Eu thin film improved by post-deposition heat treatment[J].Journal of Tianjin University of Technology,2004,20(1):20-23.
Authors:ZHANG Xiao-song  LI Lan
Institution:ZHANG Xiao-song~1,LI Lan~
Abstract:
Keywords:heat treatment  Y_2O_3:Eu thin films  crystal properties  annealing process  FED  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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