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PECVD Si_3N_4膜构成MNOS结构的退火行为
引用本文:李思渊 ,张旗 ,王毓珍 ,张同军.PECVD Si_3N_4膜构成MNOS结构的退火行为[J].兰州大学学报(自然科学版),1987(1).
作者姓名:李思渊  张旗  王毓珍  张同军
摘    要:从实验上研究了 PECVD 法 Si_3N_4膜构成的 MNOS 结构经不同类型的热处理后其界面性能的变化,并对有关效应的作用机制进行了探讨。

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