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PECVD Si_3N_4膜构成MNOS结构的退火行为
引用本文:
李思渊 ,张旗 ,王毓珍 ,张同军.PECVD Si_3N_4膜构成MNOS结构的退火行为[J].兰州大学学报(自然科学版),1987(1).
作者姓名:
李思渊
张旗
王毓珍
张同军
摘 要:
从实验上研究了 PECVD 法 Si_3N_4膜构成的 MNOS 结构经不同类型的热处理后其界面性能的变化,并对有关效应的作用机制进行了探讨。
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