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| a—Si_(1-X)C_X∶H 钝化膜热稳定性的研究 | |
| 引用本文： | 张亚菲,李亚红,张仿清.a—Si_(1-X)C_X∶H 钝化膜热稳定性的研究[J].兰州大学学报(自然科学版),1990(4). |
| 作者姓名： | 张亚菲 李亚红 张仿清 |
| 作者单位： | 兰州大学物理系 (张亚菲，李亚红)，兰州大学物理系(张仿清) |
| 摘 要： | 采用外耦合电容式射频辉光放电等离子体 CVD 系统,在低于300℃的衬底温度下,制备出了 a—Si(1-x)C_x∶H 钝化膜.对含碳量不同的3种样品作了热稳定性实验(即高温存放、温度循环和退火).另外,还对同一号样品做了在不同温度下退火30min 的实验.结果表明,此钝化膜的释氢温度高于600℃.具有很好的热稳定性. |
| 关 键 词： | 半绝缘体 半导体表面钝化 热稳定性实验 等离子体 CVD 薄膜 释氢谱 |
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