| 溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响 |
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| 引用本文： | 郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波.溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响[J].华中师范大学学报(自然科学版),2009,43(3). |
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| 作者姓名： | 郭继花 黄致新 崔增丽 杨磊 邵剑波 |
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| 作者单位： | 华中师范大学物理科学与技术学院,武汉,430079 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 磁光性能 溅射功率 |
Effect of sputtering power on magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films |
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| GUO Jihua,HUANG Zhixin,CUI Zengli,LANG Lei,SHAO Jianbo.Effect of sputtering power on magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films[J].Journal of Central China Normal University(Natural Sciences),2009,43(3). |
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| Authors: | GUO Jihua HUANG Zhixin CUI Zengli LANG Lei SHAO Jianbo |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | GdTbFeCo |
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