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| 低电流低电压条件下的医用钛合金微弧氧化工艺研究 | |
| 作者单位： | ;1.攀枝花学院材料工程学院 |
| 摘 要： | 本文以微弧氧化工艺为研究对象,研究Ti-6Al-4V(TC4)在恒流恒压的条件下微弧氧化所得到的表面情况。并通过数字显微镜观察成膜情况以及膜层厚度,实验表明:在磷酸盐与硅酸盐混合电解液体系下,Ti-6Al-4V(TC4)能够在低电流低电压的情况下发生微弧氧化,且最佳实验条件是电流密度为0.3A,反应时间20min,得到的膜层厚度为119μm。 |
| 关 键 词： | Ti-6Al-4V 微弧氧化 镀膜 |